企石55%氢氟酸批发

　　氢氟酸的用途:可用以浸蚀、清洗、刻划标记硅芯片，以及制作各式各样的硅芯片，广泛用于半导体工业的上、中、下游产业的多项制作过程，半导体(锗、硅)的制造。用于有机或无机氟化物的制造，如氟碳化合物、氟化钠、氟化铝、六氟化铀和冰晶石等。也用作染料合成及其他有机合成的催化剂。还用于电镀、试剂、发酵、制革、合成剂及杀菌剂、陶瓷处理以及含氟树脂和阻燃剂的制造等。还用于不锈钢、非铁金属酸洗，玻璃仪表刻度、玻璃器皿和镜子刻花、刻字，以及玻璃器皿抛光、磨砂灯泡和一般灯泡处理、金属石墨乳除硅提纯、金属铸件除砂、石墨灰分的去除。

　　氢氟酸泄漏的整个应急处理过程重点的还在于保护人体不受氢氟酸伤害。氢氟酸伤害导致死亡与氢氟酸的浓度及人体的接触面积有关。人体接触20%以下浓度氢氟酸的面积达到20%以上即可导致人死亡；接触20%-50%区间浓度氢氟酸的面积达到10%以上即可导致人死亡；接触50%-70%区间浓度氢氟酸的面积达到7%以上即可导致人死亡；接触70%以上浓度氢氟酸的面积达到5%以上即可导致人死亡；而接触无水氢氟酸的面积达到1%以上即可导致人死亡。

　　所述排放段由水排放池和污泥排放池组成，含氟废水中达标后经过水排放池排入污水管网，进一步处理;所述沉淀池A和沉淀池B产生的污泥排入所述污泥排放池，进一步由脱水干燥系统处理。所述含氟废水经过二级反应沉淀过程后，含氟废水中的氟离子被大部分去除，废水得到净化,出水中的氟离子浓度在10mg/l以下，能够达标排放。所述一种氢氟酸提纯废水处理装置由地下设备、处理装置、架台设备组成;所述地下设备包括配水池、石灰池、污泥排放池、水排放池;所述处理装置包括PH调节池、反应池A、絮凝池A、沉淀池A、反应池B、絮凝池B、沉淀池B、提升泵、污泥泵、电磁阀;所述架台设备包括计量泵、碱筒、氯化钙筒、PAM筒、PAC筒、酸筒;所述地下设备均为混凝土构造矩形池体，所述地下设备均设置于地面以下位置，所述配水池和水排放池底部设置有曝气管道，所述石灰池设置有搅拌器，所述处理装置为设置于地面上的矩形槽箱式结构，均采用聚丙烯材质焊接制造，所述沉淀池A和沉淀池B底部设置有储泥斗，所述储泥斗为锥形体，所述PH调节池与所述反应池A相连接，所述反应池A和絮凝池A并列设置，所述反应池A和絮凝池 A后面连接所述沉淀池A，所述沉淀池A后面与反应池B和絮凝池B连接，所述反应池B和絮凝池B并列设置，所述反应池B和絮凝池B并列体后面与所述沉淀池B连接;所述架台设备均设置在架台，所述架台位置高于所述处理装置，所述架台设置上设置有计量泵和阀门;所述PH调节池、反应池A、絮凝池A、反应池B、絮凝池B上设置有搅拌器，所述PH调节池、反应池A、反应池B上设置有PH计，所述处理装置中的PH调节池、反应池A、絮凝池A、沉淀池A、反应池B、絮凝池B、沉淀池B通过工艺管道和阀门依次连通;所述配水池通过二套提升泵为所述PH调节池输送废水;所述沉淀池A和沉淀池B底部通过污泥泵和电磁阀与所述污泥排放池管道连通;所述碱筒与PH调节池、所述石灰池、氯化钙筒与所述反应池A、所述PAM筒与絮凝池A、所述酸筒和PAC筒与反应池B、所述PAM筒与絮凝池B通过工艺管道和阀门连接。氢氟酸是氟化氢的水溶液，具有强烈的腐蚀性。纯氟化氢有时也称作无水氢氟酸。听起来可能很荒谬，尽管理论上氢氟酸是一种弱酸——这是因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全解离。但是氢氟酸却能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（二氧化硅），因此臭名昭著。