凤岗55%氢氟酸厂家

　　氢氟酸的用途:可用以浸蚀、清洗、刻划标记硅芯片，以及制作各式各样的硅芯片，广泛用于半导体工业的上、中、下游产业的多项制作过程，半导体(锗、硅)的制造。用于有机或无机氟化物的制造，如氟碳化合物、氟化钠、氟化铝、六氟化铀和冰晶石等。也用作染料合成及其他有机合成的催化剂。还用于电镀、试剂、发酵、制革、合成剂及杀菌剂、陶瓷处理以及含氟树脂和阻燃剂的制造等。还用于不锈钢、非铁金属酸洗，玻璃仪表刻度、玻璃器皿和镜子刻花、刻字，以及玻璃器皿抛光、磨砂灯泡和一般灯泡处理、金属石墨乳除硅提纯、金属铸件除砂、石墨灰分的去除。

　　氢氟酸不是强酸，因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，且水溶液中氟化氢分子间存在氢键，使得氢氟酸在水中不能电离，所以理论上低浓度的氢氟酸是一种弱酸。氢氟酸具有强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成治愈的灼伤。实验室一般用萤石（主要成分为氟化钙）和浓硫酸来制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于阴凉处。接触氢氟酸后的初始救护措施通常包括在接触部位涂上葡萄糖酸钙凝胶。如果接触范围过广，又或者延误时间太长的话，医护人员可能会在动脉或周围组织中注射钙盐溶液。但无论如何，接触氢氟酸后得到及时并且的护理。

　　将KHF2放在铂制或铜制的蒸馏瓶或烧瓶中，用灯加热，冷凝液收集在用冰冷却的铜制接受器中，接受器装有氯化钙干燥管。初的10～20ml冷凝液弃去，其余的冷凝液在水浴上于35～39℃再蒸馏一次。再把NH4F在100～110℃下干燥，然后把盐装入铜制蒸馏瓶或铜制烧瓶中并用无水HCl处理，在冷却到-50℃的接受器中收集冷凝液。所得到的HF含0.1%～0.12%的水和少量的HCl杂质。经蒸馏后的制剂无Cl-。氢氟酸是氟化氢的水溶液，具有强烈的腐蚀性。纯氟化氢有时也称作无水氢氟酸。听起来可能很荒谬，尽管理论上氢氟酸是一种弱酸——这是因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全解离。但是氢氟酸却能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（二氧化硅），因此臭名昭著。