1.9所述混凝反应在所述絮凝池B中进行，在搅拌状态下，由PAM筒通过计量泵投加PAM，含氟废水中的氟离子再次发生絮凝沉淀，污染物再一次被去除，所述絮凝池B中的含氟废水引入到沉淀池B中心的导流筒内;1.10述沉淀B在所述沉淀池B中进行，含氟废水由导流筒向下方再反射回流，并在所述沉淀池B中将大部分氟离子沉淀下来，并进行固液二相分离，上清液从所述沉淀池B上部以多点方式排放到水排放池中，污泥沉降于所述沉淀池B下方的储泥斗内，通过污泥泵和电磁阀控制排放到污泥排放池;

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　　将所述上清液依次使用过滤器初滤、错流式超滤膜过滤分离，得到浓水及 过滤水，在所述过滤水中加入阻垢剂后，再经反渗透膜过滤分离，得到废液及 回用水;及将所述浓水与一部分所述废液通入所述容器中，并与所述氢氟酸废水的原 液混合，且另一部分所述废液排出。在其中一个实施例中，所述混凝剂为聚合氯化铝、聚丙烯酰胺或水合硫酸 铝;加入的所述混凝剂的浓度为1PPM～50PPM。在其中一个实施例中，所述阻垢剂为超纯牌型号为MPC8668的反渗透膜阻垢剂;且加入的所述阻垢剂浓度为1PPM～50PPM。

　　所述提升泵设置有二套，通过工艺管道与PH调节池连通，通过提升泵的作用将含氟废水提升至所述PH调整池内，然后含氟废水自行流进所述反应池A和絮凝池A;然后含氟废水进入所述沉淀池A，在所述沉淀池A中上清液溢流进入所述反应池B，由反应池B流入絮凝池B，然后在导入到所述沉淀池B，由于除进水外其它均为自行流动，节省了废水处理额动力费用。所述PH调节池、反应池A、絮凝池A和所述反应池B、絮凝池B均为敞口一体式槽体，内部设有搅拌机，由于本身为敞口，且本身除搅拌机外，槽体基本无需日常检修与维护。由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。