氢氟酸(HF)常温下为无澄清的发烟液体。与金属盐、氧化物、氢氧化物作用生成氟化物。有刺激性气味。易挥发，置于空气中即冒白烟。剧毒！易聚合，在水溶液中以H2F2或H3F3的形式存在，对金、铂、铅及聚乙烯塑料不起腐蚀作用。沸点112.2℃(按质量分数计为38.2%)。腐蚀性强，对牙、骨损害较严重，能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。遇金属能放出氢气，遇火星易引起爆炸或燃烧。为中等强度的酸。相对密度1.15～1.18。

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　　氢氟酸是氟化氢气体(HF)的水溶液，为无透明有刺激性气味的发烟液体，纯氟化氢有时也称作无水氢氟酸。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能电离，所以理论上低浓度的氢氟酸是一种弱酸。具有强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。有剧毒，如吸入蒸气或接触皮肤会造成治愈的灼伤。实验室一般用萤石(主要成分为氟化钙)和浓硫酸来制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于阴凉处。

　　2016年我国电子级氢氟酸产能达18.5万吨，与2015年比年均增长14.91%；2017年，中国半导体行业增长，其对电子级氢氟酸的需求有所增长，这也推动了电子级氢氟酸行业的发展。2018年估算电子级氢氟酸产能达到24.0万吨。应用领域广泛，电子级氢氟酸需求不断提高目前，电子级氢氟酸主要运用在集成电路、太阳能光伏和液晶显示屏等领域，其中大应用市场是集成电路领域，约占电子级氢氟酸总消耗量的47.3%；其次是太阳能光伏领域，占比22.1%；再次是液晶显示器领域，占18.3%。由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。