氢氟酸能能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体，如吸入蒸气或接触人体外表能形成较难变好的溃疡，很难治愈。氟是较活泼的非金属，氧化能力强，而且氢氟酸中的氟离子的半径很小，甚至小于氧离子，这导致它有很强的渗透性，致密的氧化物也不能阻止它的渗透。

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　　氢氟酸的弱酸性，因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能解离。在氢卤酸中只有氢氟酸是弱酸（其电离常数为3.5x10^-4，在浓度为0.1mo1.L^-1时它的表观电离度为10％，因此，HF也可以勉强算作一个中强酸。浓时的电离度比稀时大而与一般弱电解质有别）。氢氟酸泄漏处理:迅速撤离泄漏污染区人员至区，并进行隔离，严格限制出入。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器，穿防酸碱工作服。不要直接接触泄漏物。尽可能切断泄漏源。

　　电子级氢氟酸是半导体制作过程中应用多的电子化学品之一，在氟化氢行业频遭"限制"的情况下，高纯电子级氟化氢却逆势而上，不断有企业增扩电子级氟化氢产能。随着我国微电子工业的高速发展，电子级氟化氢需求不断提高。电子级氢氟酸是氟精细化学品的一种，主要用于去除氧化物，是半导体制作过程中应用多的电子化学品之一。从电子级氢氟酸行业的发展历程来看，可以分为三个阶段:起始阶段、规模化发展阶段以及发展阶段。

　　接继前步操作，在所述反应池B中，通过PH计自动检测含氟废水中的 PH值，在搅拌状态下，由PAC筒通过计量泵投加聚合氯化铝，所述反应池 B中的含氟废水自动流入絮凝池B中。所述混凝反应在所述絮凝池B中进行，在搅拌状态下，由PAM筒通过计量泵投加PAM，含氟废水中的氟离子再次发生絮凝沉淀，污染物再一次被去除，所述絮凝池B中的含氟废水引入到沉淀池B中心的导流筒内。所述沉淀B在所述沉淀池B中进行，含氟废水由导流筒向下方再反射回流，并在所述沉淀池B中将大部分氟离子沉淀下来，并进行固液二相分离，上清液从所述沉淀池B上部以多点方式排放到水排放池中，污泥沉降于所述沉淀池B下方的储泥斗内，通过污泥泵和电磁阀控制排放到污泥排放池。