民众固体氢氟酸免费咨询

　　氢氟酸的用途:可用以浸蚀、清洗、刻划标记硅芯片，以及制作各式各样的硅芯片，广泛用于半导体工业的上、中、下游产业的多项制作过程，半导体(锗、硅)的制造。用于有机或无机氟化物的制造，如氟碳化合物、氟化钠、氟化铝、六氟化铀和冰晶石等。也用作染料合成及其他有机合成的催化剂。还用于电镀、试剂、发酵、制革、合成剂及杀菌剂、陶瓷处理以及含氟树脂和阻燃剂的制造等。还用于不锈钢、非铁金属酸洗，玻璃仪表刻度、玻璃器皿和镜子刻花、刻字，以及玻璃器皿抛光、磨砂灯泡和一般灯泡处理、金属石墨乳除硅提纯、金属铸件除砂、石墨灰分的去除。

　　氟化工作为化工新材料之一，由于产品具有高性能、高附加值，氟化工产业被称为黄金产业，在一段较长时期内，氟化工行业也是化工领域内发展速度快的行业之一;然而，在氟化工迅猛发展的过程中，普遍存在的污染问题同时也制约着我国氟化工行业的发展;氟化工含氟废水中成分复杂往往含有较大量的氟、氨和其它一些杂质离子。但是氟是有毒污染物，不达标排放将对整个流域造成巨大污染危害，故一直以来国家部门考虑到氟废水对环境的危害和污染现状，对氟化工采取的是限制发展的，因此对整个氟化工行业未来的发展产生不利的影响。

　　所述排放段由水排放池和污泥排放池组成，含氟废水中达标后经过水排放池排入污水管网，进一步处理;所述沉淀池A和沉淀池B产生的污泥排入所述污泥排放池，进一步由脱水干燥系统处理。所述含氟废水经过二级反应沉淀过程后，含氟废水中的氟离子被大部分去除，废水得到净化,出水中的氟离子浓度在10mg/l以下，能够达标排放。所述一种氢氟酸提纯废水处理装置由地下设备、处理装置、架台设备组成;所述地下设备包括配水池、石灰池、污泥排放池、水排放池;所述处理装置包括PH调节池、反应池A、絮凝池A、沉淀池A、反应池B、絮凝池B、沉淀池B、提升泵、污泥泵、电磁阀;所述架台设备包括计量泵、碱筒、氯化钙筒、PAM筒、PAC筒、酸筒;所述地下设备均为混凝土构造矩形池体，所述地下设备均设置于地面以下位置，所述配水池和水排放池底部设置有曝气管道，所述石灰池设置有搅拌器，所述处理装置为设置于地面上的矩形槽箱式结构，均采用聚丙烯材质焊接制造，所述沉淀池A和沉淀池B底部设置有储泥斗，所述储泥斗为锥形体，所述PH调节池与所述反应池A相连接，所述反应池A和絮凝池A并列设置，所述反应池A和絮凝池 A后面连接所述沉淀池A，所述沉淀池A后面与反应池B和絮凝池B连接，所述反应池B和絮凝池B并列设置，所述反应池B和絮凝池B并列体后面与所述沉淀池B连接;所述架台设备均设置在架台，所述架台位置高于所述处理装置，所述架台设置上设置有计量泵和阀门;所述PH调节池、反应池A、絮凝池A、反应池B、絮凝池B上设置有搅拌器，所述PH调节池、反应池A、反应池B上设置有PH计，所述处理装置中的PH调节池、反应池A、絮凝池A、沉淀池A、反应池B、絮凝池B、沉淀池B通过工艺管道和阀门依次连通;所述配水池通过二套提升泵为所述PH调节池输送废水;所述沉淀池A和沉淀池B底部通过污泥泵和电磁阀与所述污泥排放池管道连通;所述碱筒与PH调节池、所述石灰池、氯化钙筒与所述反应池A、所述PAM筒与絮凝池A、所述酸筒和PAC筒与反应池B、所述PAM筒与絮凝池B通过工艺管道和阀门连接。储存注意事项: 储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不超过30℃，相对湿度不超过85%。保持容器密封。应与碱类、活性金属粉末、玻璃制品分开存放，切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。监测方法:离子选择性电极法；氟试剂－镧盐比色法