近年来，随着我国微电子工业的高速发展，中国大陆逐步成为较大的液晶显示器（LCD）产业基地，用于集成电路（IC）、薄膜液晶显示器（TFT-LCD）和半导体等清洗和蚀刻剂的电子化学品的需求越来越大，国内优势企业的竞争力正在不断增强，长期成长空间巨大。 氢氟酸是氟化氢气体的水溶液，清澈、发烟，且具有强的腐蚀性，其腐蚀性高于王水，不仅能够腐蚀金属，还可以溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃。因为氢氟酸的这一特性，在微电子行业中被广泛应用，目前，在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂，氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成。

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　　但此种方法存在如下弊端:在加过程中因为气候、工艺、原材料纯度、废水中成分杂(如:氨)、品溶解度等原因导致加量掌控，因此经常出现废水超标现象;是在氢氟酸提纯中，其排放的废水含氟浓度较高，因此现有简单的加石灰一级混凝沉淀工艺出水很难达到国家规定的排放要求;氢氟酸提纯废水具有很强的腐蚀性，因此普通的设备易老化腐蚀，从而造成损坏;由于氢氟酸废水酸性较强，采用简单的加碱或加石灰，PH调整不稳定，且加量大;现有处理氢氟酸设备较多采用钢砼内衬玻璃钢环氧防腐，设备布置时，摆放方式固定，灵活性不强，不能根据现场的实际情况进行调整。

　　在其中一个实施例中，所述过滤器为三级过滤器。在其中一个实施例中，所述错流式超滤膜为截留分子量1万道尔顿～100万 道尔顿的错流式超滤膜。在其中一个实施例中，所述反渗透膜为陶氏BW30-365型反渗透膜。在其中一个实施例中，所述浓水与所述过滤水的质量比为5～20:80～95。在其中一个实施例中，回流的所述废液与排出的所述废液的质量比为 10～30:2～10。在其中一个实施例中，加入所述混凝剂后混合沉淀的时间为10分钟～120分 钟。由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。