河源固体氢氟酸免费咨询

　　氢氟酸的用途:可用以浸蚀、清洗、刻划标记硅芯片，以及制作各式各样的硅芯片，广泛用于半导体工业的上、中、下游产业的多项制作过程，半导体(锗、硅)的制造。用于有机或无机氟化物的制造，如氟碳化合物、氟化钠、氟化铝、六氟化铀和冰晶石等。也用作染料合成及其他有机合成的催化剂。还用于电镀、试剂、发酵、制革、合成剂及杀菌剂、陶瓷处理以及含氟树脂和阻燃剂的制造等。还用于不锈钢、非铁金属酸洗，玻璃仪表刻度、玻璃器皿和镜子刻花、刻字，以及玻璃器皿抛光、磨砂灯泡和一般灯泡处理、金属石墨乳除硅提纯、金属铸件除砂、石墨灰分的去除。

　　氢氟酸亦能与一般金属、金属氧化物、以及氢氧化物相作用，生成各种金属氟盐，但作用不及盐酸那样剧烈。金、铂、铅、石蜡以及某些塑料(聚乙烯等)与它不起作用，所以可作容器。腐蚀性强，能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。反应式如下:SiO2＋4HF→H2O＋SiF4↑，玻璃是硅的化合物，因此氢氟酸不能盛放玻璃容器中。氢氟酸能形成酸式盐，氢氟酸本是一元酸，但能制得一系列的酸式盐如NaHF2、KHF2、NH4HF2等，这是其他三种氢卤酸。

　　所述沉淀A在所述沉淀池A中进行，含氟废水由导流筒向下方再反射回流，并在所述沉淀池A中将大部分氟离子沉淀下来，并进行固液二相分离，上清液从所述沉淀池A上部以多点方式流入到B级混凝沉淀段，污泥沉降于所述沉淀池A下方的储泥斗内，通过污泥泵和电磁阀排放到污泥排放池。所述B级混凝沉淀段包括酸调节PH、混凝反应、沉淀B;所述酸调 PH在所述反应池B中进行，通过PH计自动检测含氟废水中的PH值，在搅拌状态下，由酸筒通过计量泵对所述反应池B中的含氟废水进行自动调节，调节PH值为8±0.2。氢氟酸（化学式:HF）是一种极强的腐蚀剂，有剧毒。它是无色的气体或是液体，但是在空气中，只要超过3ppm就会产生发生反应的味道。氢氟酸，在防腐行业里，他可以称为极可怕的腐蚀破坏大魔头，腐蚀性极强，腐蚀介质渗透率高。