接继前步操作，在所述反应池B中，通过PH计自动检测含氟废水中的 PH值，在搅拌状态下，由PAC筒通过计量泵投加聚合氯化铝，所述反应池 B中的含氟废水自动流入絮凝池B中。所述混凝反应在所述絮凝池B中进行，在搅拌状态下，由PAM筒通过计量泵投加PAM，含氟废水中的氟离子再次发生絮凝沉淀，污染物再一次被去除，所述絮凝池B中的含氟废水引入到沉淀池B中心的导流筒内。所述沉淀B在所述沉淀池B中进行，含氟废水由导流筒向下方再反射回流，并在所述沉淀池B中将大部分氟离子沉淀下来，并进行固液二相分离，上清液从所述沉淀池B上部以多点方式排放到水排放池中，污泥沉降于所述沉淀池B下方的储泥斗内，通过污泥泵和电磁阀控制排放到污泥排放池。

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　　所述石灰调PH在所述反应池A中进行，所述石灰来自于石灰池，通过 PH计自动检测含氟废水中的PH值，在搅拌状态下，通过计量泵投加石灰于反应池A中，调节含氟废水的PH值为9±0.5。接继前步操作，在所述反应池A中，通过PH计自动检测含氟废水中的 PH值，在搅拌状态下，由氯化钙筒通过计量泵投加氯化钙，至所述含氟废水中大量形成沉淀物为止;所述反应池A中的含氟废水自动流入絮凝池A中。所述絮凝反应在所述絮凝池A中进行，在搅拌状态下，由PAM筒通过计量泵投加PAM，使废水产生较大矾花易于沉淀;所述絮凝池A中的含氟废水引入到沉淀池A中心的导流筒内。

　　氢氟酸和熔融氢氧化钠用于微丝表面玻璃包覆层的去除，室温下氢氟酸去除厚度为10 μm的玻璃包覆层的时间大约为150s，熔融氢氧化钠大约需要10 s；玻璃的成分和结构是影响玻璃包覆纯铜微丝耐腐蚀性能的重要因素。采用熔融纺丝法制备了玻璃包覆纯铜微丝,对微丝表面玻璃包覆层的去除进行了实验研究，评价了微丝在氢氟酸和熔融氢氧化钠中的腐蚀行为，分析了玻璃包覆纯铜微丝在强酸和强碱中的耐腐蚀性能，探讨了其腐蚀机理。由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。