博罗55%氢氟酸厂家

　　氢氟酸的用途:可用以浸蚀、清洗、刻划标记硅芯片，以及制作各式各样的硅芯片，广泛用于半导体工业的上、中、下游产业的多项制作过程，半导体(锗、硅)的制造。用于有机或无机氟化物的制造，如氟碳化合物、氟化钠、氟化铝、六氟化铀和冰晶石等。也用作染料合成及其他有机合成的催化剂。还用于电镀、试剂、发酵、制革、合成剂及杀菌剂、陶瓷处理以及含氟树脂和阻燃剂的制造等。还用于不锈钢、非铁金属酸洗，玻璃仪表刻度、玻璃器皿和镜子刻花、刻字，以及玻璃器皿抛光、磨砂灯泡和一般灯泡处理、金属石墨乳除硅提纯、金属铸件除砂、石墨灰分的去除。氢氟酸能能强烈的腐蚀金属、玻璃和含硅的物体，如吸入蒸气或接触人体外表能形成较难变好的溃疡，很难治愈。氟是极活泼的非金属元素，氧化能力强，而且氢氟酸中的氟离子的半径很小，甚至小于氧离子，这导致它有很强的渗透性，致密的氧化物也不能阻止它的渗透。

　　根据权利要求1所述的氢氟酸废水的处理方法，其特征在于，所述过滤 器为三级过滤器。根据权利要求1所述的氢氟酸废水的处理方法，其特征在于，所述错流 式超滤膜为截留分子量1万道尔顿～100万道尔顿的错流式超滤膜。根据权利要求1所述的氢氟酸废水的处理方法，其特征在于，所述反渗 透膜为陶氏BW30-365型反渗透膜。根据权利要求1所述的氢氟酸废水的处理方法，其特征在于，所述浓水 与所述过滤水的质量比为5～20:80～95。

　　所述工艺管道与设备、污泥泵、提升泵、计量泵之间采用法兰、密封螺接;所述处理装置使用PP板焊接的方式制造，采用矩形无顶盖结构，所述PH调节池、反应池A、絮凝池A为一体式反应槽，槽内有搅拌器安装维护空间和加空间;其中调节PH的加量通过PH计和加计量泵联动;沉淀池A底部锥形结构，上部为方形结构;所述沉淀池A方形结构正中心设置导流筒作为进水区域，底部锥形部分作为储泥斗，接收反应池产生的沉淀物，所述储泥斗锥形部分设置排泥管;所述沉淀池A出水在上部方形结构部位，实现泥水二相固液分离;上清液从上部通过堰板溢流进入B级混凝沉淀段，上清液进入反应池B时设置多点进水，进水均匀性;所述反应池B和絮凝池B同样采用矩形无顶盖结构，槽内进行搅拌和加管道，所述反应池B和絮凝池B为一体式并列反应槽;槽内出水进入所述沉淀池B的中心导流筒，其连接方式采用管道法兰连接。