本发明的工作原理是:氢氟酸提纯废水处理工艺，通过水泵将含氟废水一次提升，通过在反应池A、反应池B投加化学剂絮凝，在沉淀池A 和沉淀池B实现污染物质的分离沉淀，有效去除氟离子、金属离子、磷酸根离子等污染物，出水水质的达标排放。配水池废水通过曝气搅拌的方式调整其水质，之后通过提升泵提升进入PH调节池，废水PH值通过PH计自动控制加碱筒与计量泵，并调整PH 值至6左右;之后废水自流进入反应池A，反应池A处于边搅拌、边加入剂状态，其投加石灰调整PH值至9左右，投加氯化钙，增加其钙离子浓度，废水中的氟离子污染物形成沉淀物，之后废水自流进入絮凝池A 中，在絮凝池A中投加PAM，使废水产生较大矾花易于沉淀;反应后出水进入沉淀池A的导流筒内;沉淀池A中实现固液的分离，上清液以多点进水方式进入反应池B，在反应池B内通过PH计自动控制加酸量，控制PH 值在8左右，同时投加聚合氯化铝，之后废水自流进入絮凝池B中，投加 PAM，在搅拌条件下氟离子再次发生絮凝沉淀，污染物再一次被去除，反应池B出水进入沉淀池B的中心导流筒内，经过A级絮凝沉淀段和B级混凝沉淀段，在这两段反应沉淀过程中，污水中的氟离子被大部分去除，废水中的氟离子浓度控制在10mg/L以下得到净化,出水能够达标排放。

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　　在其中一个实施例中，所述过滤器为三级过滤器。在其中一个实施例中，所述错流式超滤膜为截留分子量1万道尔顿～100万 道尔顿的错流式超滤膜。在其中一个实施例中，所述反渗透膜为陶氏BW30-365型反渗透膜。在其中一个实施例中，所述浓水与所述过滤水的质量比为5～20:80～95。在其中一个实施例中，回流的所述废液与排出的所述废液的质量比为 10～30:2～10。在其中一个实施例中，加入所述混凝剂后混合沉淀的时间为10分钟～120分 钟。

　　1.11所述排放段由水排放池和污泥排放池组成，含氟废水中达标后经过水排放池排入污水管网，进一步处理;所述沉淀池A和沉淀池B产生的污泥排入所述污泥排放池，进一步由脱水干燥系统处理;所述含氟废水经过二级反应沉淀过程后，含氟废水中的氟离子被大部分去除，废水得到净化,出水中的氟离子浓度在10mg/l以下，能够达标排放。2.所述一种氢氟酸提纯废水处理装置，其特征在于，所述一种氢氟酸提纯废水处理装置由地下设备、处理装置、架台设备组成;所述地下设备包括配水池、石灰池、污泥排放池、水排放池;所述处理装置包括PH调节池、反应池A、絮凝池A、沉淀池A、反应池B、絮凝池B、沉淀池B、提升泵、污泥泵、电磁阀;所述架台设备包括计量泵、碱筒、氯化钙筒、PAM筒、PAC筒、酸筒;所述地下设备均为混凝土构造矩形池体，所述地下设备均设置于地面以下位置，所述配水池和水排放池底部设置有曝气管道，所述石灰池设置有搅拌器，所述处理装置为设置于地面上的矩形槽箱式结构，均采用聚丙烯材质焊接制造，所述沉淀池A和沉淀池B底部设置有储泥斗，所述储泥斗为锥形体，所述PH调节池与所述反应池A相连接，所述反应池A和絮凝池A并列设置，所述反应池A和絮凝池A后面连接所述沉淀池A，所述沉淀池A后面与反应池B和絮凝池B连接，所述反应池B和絮凝池B并列设置，所述反应池B和絮凝池B并列体后面与所述沉淀池B连接;所述架台设备均设置在架台，所述架台位置高于所述处理装置，所述架台设置上设置有计量泵和阀门;所述PH调节池、反应池A、絮凝池A、反应池B、絮凝池B上设置有搅拌器，所述PH调节池、反应池A、反应池B上设置有PH计，所述处理装置中的PH调节池、反应池A、絮凝池A、沉淀池A、反应池B、絮凝池B、沉淀池B通过工艺管道和阀门依次连通;所述配水池通过二套提升泵为所述PH调节池输送废水;所述沉淀池A和沉淀池B底部通过污泥泵和电磁阀与所述污泥排放池管道连通;所述碱筒与PH调节池、所述石灰池、氯化钙筒与所述反应池A、所述PAM筒与絮凝池A、所述酸筒和PAC筒与反应池B、所述PAM筒与絮凝池B通过工艺管道和阀门连接。由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。