近年来，随着我国微电子工业的高速发展，中国大陆逐步成为较大的液晶显示器（LCD）产业基地，用于集成电路（IC）、薄膜液晶显示器（TFT-LCD）和半导体等清洗和蚀刻剂的电子化学品的需求越来越大，国内优势企业的竞争力正在不断增强，长期成长空间巨大。 氢氟酸是氟化氢气体的水溶液，清澈、发烟，且具有强的腐蚀性，其腐蚀性高于王水，不仅能够腐蚀金属，还可以溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃。因为氢氟酸的这一特性，在微电子行业中被广泛应用，目前，在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂，氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成。

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　　氢氟酸具有很强的腐蚀性和毒性。吸入大量氢氟酸气体可导致急性中毒和慢性损伤。急性氢氟酸中毒的临床表现因接触毒物浓度不同而不同。当接触于低浓度氢氟酸时，由于结膜和鼻粘膜的刺激，会出现流泪、流鼻涕、打喷嚏和鼻阻塞的症状。皮肤接触后，会出现疼痛和皮肤灼伤。疼痛逐渐变得无法忍受，2到3天后开始缓解。当接触于高浓度氢氟酸时，会引起烧灼感、嗅觉丧失、咳嗽和鼻腔、喉咙和胸骨嘶哑。严重者可引起眼结膜、鼻粘膜、口腔粘膜、鼻出血、鼻中隔穿孔、支气管炎、肺炎等顽固性溃疡，有时可引起恶心、呕吐、腹痛、气短及系统症状。

　　1.9所述混凝反应在所述絮凝池B中进行，在搅拌状态下，由PAM筒通过计量泵投加PAM，含氟废水中的氟离子再次发生絮凝沉淀，污染物再一次被去除，所述絮凝池B中的含氟废水引入到沉淀池B中心的导流筒内;1.10述沉淀B在所述沉淀池B中进行，含氟废水由导流筒向下方再反射回流，并在所述沉淀池B中将大部分氟离子沉淀下来，并进行固液二相分离，上清液从所述沉淀池B上部以多点方式排放到水排放池中，污泥沉降于所述沉淀池B下方的储泥斗内，通过污泥泵和电磁阀控制排放到污泥排放池;由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。