氢氟酸的用途:可用以浸蚀、清洗、刻划标记硅芯片，以及制作各式各样的硅芯片，广泛用于半导体工业的上、中、下游产业的多项制作过程，半导体(锗、硅)的制造。用于有机或无机氟化物的制造，如氟碳化合物、氟化钠、氟化铝、六氟化铀和冰晶石等。也用作染料合成及其他有机合成的催化剂。还用于电镀、试剂、发酵、制革、合成剂及杀菌剂、陶瓷处理以及含氟树脂和阻燃剂的制造等。还用于不锈钢、非铁金属酸洗，玻璃仪表刻度、玻璃器皿和镜子刻花、刻字，以及玻璃器皿抛光、磨砂灯泡和一般灯泡处理、金属石墨乳除硅提纯、金属铸件除砂、石墨灰分的去除。

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　　氢氟酸是氟化氢气体(HF)的水溶液，为无透明有刺激性气味的发烟液体，纯氟化氢有时也称作无水氢氟酸。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能电离，所以理论上低浓度的氢氟酸是一种弱酸。具有强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。有剧毒，如吸入蒸气或接触皮肤会造成治愈的灼伤。实验室一般用萤石(主要成分为氟化钙)和浓硫酸来制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于阴凉处。

　　储存注意事项: 储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不超过30℃，相对湿度不超过85%。保持容器密封。应与碱类、活性金属粉末、玻璃制品分开存放，切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。监测方法:离子选择性电法；氟试剂－镧盐比法工程控制: 密闭操作，注意通风。尽可能机械化、自动化。提供淋浴和洗眼设备。氢氟酸的反应:氢氟酸，分子式HF－H2O，属剧毒弱酸，可经皮肤和呼吸道被人体吸收。对皮肤有强烈刺激性和腐蚀性。吸入氢氟酸酸雾会引起支气管炎和出血性肺水肿，人体摄入1.5g可致立即死亡，经皮肤吸收可引起严重中毒。由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。