板芙工业级氢氟酸价格优惠

　　接触氢氟酸后的初始救护措施通常包括在接触部位涂上葡萄糖酸钙凝胶。如果接触范围过广，又或者延误时间太长的话，医护人员可能会在动脉或周围组织中注射钙盐溶液。但无论如何，接触氢氟酸后得到及时并且的护理。由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，可以雕刻图案、标注刻度和文字；半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯）还有氟利昂一类的致冷剂。

　　含CaF2＞97%、SiO2＜1%、CaCO3＜1%的制酸级萤石经干燥、粉碎筛分至粒度＜150μm后与98%浓硫酸按1:（1.2～1.3）的配比送入回转炉内进行反应。回转炉前段温度为160～180℃，后段为220～280℃，炉内气相温度控制在（280±10）℃。需要注意，如二氧化硅含量过高，会和HF反应生成四氟化硅而降低HF的收率，从而增加硫酸消耗。如碳酸钙含量过高也会增加硫酸消耗，并在反应器内形成二氧化碳泡沫，降低HF的浓度，去掉硝酸和发红颜。

　　近年来，随着我国微电子工业的高速发展，中国大陆逐步成为较大的液晶显示器（LCD）产业基地，用于集成电路（IC）、薄膜液晶显示器（TFT-LCD）和半导体等清洗和蚀刻剂的电子化学品的需求越来越大，国内优势企业的竞争力正在不断增强，长期成长空间巨大。 氢氟酸是氟化氢气体的水溶液，清澈、发烟，且具有强的腐蚀性，其腐蚀性高于王水，不仅能够腐蚀金属，还可以溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃。因为氢氟酸的这一特性，在微电子行业中被广泛应用，目前，在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂，氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成。氢氟酸还有很多用途，它在铝和铀的提纯中应用、可以用于单体硅表面的氧化物去除、，在炼油厂中可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸、此外氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成，不粘锅的土层、冰箱里面的氟利昂的合成都要用到氢氟酸