详细说明
PKP
(纯净的柯达(Kodak)光刻胶)
这种稳定的纯净的柯达光刻胶材料在分辨率、粘结性和抗浸蚀性等方面都有所改进而且细孔密度低,可用于先进的平面半导体技术和微电子技术。
PKP - Ⅱ型
具有优良粘结性能的纯净KTFR光刻胶PKP纯净柯达光刻胶
说明
PKP光刻胶是纯净的柯达“KMER”和“KTFR”稳定溶液,这种光刻胶在分辨率、粘结性和抗浸蚀性方面有所改进,细孔密度低,作为阴性光刻胶使用具有全面良好性能。在使用时,这种光刻胶不需要进行膜过滤。分辨率在微米范围。在生产过程中光刻工艺具有良好稳定的重现性。PKP光刻胶的生产条件保证这种光刻胶具有高质量并满足高级集成电路制作的严格精密要求。