分子束蒸发源SOURCE-1250用于在超高真空中制备MBE生长的薄膜

　　分子束蒸发源SOURCE-1250特点简介:

　　分子束蒸发源，用于在超高真空中制备MBE生长的薄膜

　　开放式蒸发源，它的设计是为了尽量减少分子束 辐射时的气体排放

　　安装法兰盘:ICF070·114等

　　温度控制:通过PID控制Max1250

　　分子束蒸发源SOURCE-1250规格:

　　(1) 坩埚容量:约10cc（唇边约15mm x 57mm）

　　(2) 坩埚材料PBN

　　(3) 加热器 高纯度Ta线盘绕

　　(4) 侧面反射器 5层 高纯度Ta

　　(5) 加热元件支撑底座 高纯度Mo

　　(6) 热电偶Pr13

　　(7) 加热元件的外部形状为φ35X50mm

　　(8) 工作温度范围300°C至1250°C

　　(9) 百叶窗的开/关由微型法兰盘旋转导入机完成（标准手动:空气驱动是可选的）

　　(10) 安装法兰114CF (4.5 "CF)

　　(11) 加热电源 1KW直流电源，有电流和电压限制

　　(12) 温度控制器:PID控制方式RT~1800°C，控制精度0.1°C最大

　　(13) 最高烘烤温度:250°C（拆除电缆和空气驱动装置后）

　　分子束蒸发源SOURCE-1250相关产品:

　　衡鹏供应

　　MBE-260_MBE装置

　　RHEED-1000_RHEED Unit

　　PLD-M_复合PLD设备