北京冠金利新材料科技有限公司下设镀膜材料、溅射靶材、金属粉末、高纯材料等事业部，热烈欢迎新老客户垂询。因其应用领域，制备方法，规格要求，纯度标准不同，具体请联系本公司相关人员。 

　　我公司专业生产靶材的生产工艺:通过金属熔炼，粉末冶金，非金属粉末方法运用真空熔炼，普通热压，冷压烧结等方法成型，通过锻造，热轧或冷轧，再经过热处理消除型材应力并使之均质化或通过高温烧结增加其致密性，然后再对处理过的型材进行车，铣，刨，磨等机加工过程，再清洗，烘干，完成最终产品。有时根据需要对某些靶材地面金属化后进行与无氧铜背板的绑定。最后经过超声波或者X光等检测，包装，出厂。靶材种类:金属靶材，陶瓷靶材，合金靶材。

　　1、二硅化钼粉体的基本特征:二硅化钼陶瓷粉体是一种灰色粉末，化学分子式为:MoSi2，分子重量为152.11，密度6.3g/cm3，热膨胀系数为:5.1×10-6K-1，电阻率为21×10-6Ω.cm，显微硬度为1200kg/mm2。本公司生产的二硅化钼陶瓷粉体具有陶瓷的高熔点和耐蚀抗氧化性能，并兼有金属材料的导电性和高温塑性，同时又有较低比重，是二元合金系中含硅量最高的一种中间相，具有金属与陶瓷的双重特性。

　　2、二硅化钼粉体的主要用途:二硅化钼粉体主要用于发热元件、集成电路、高温抗氧化涂层及高温结构材料，其最主要用途是制作在氧化气氛下工作的发热元件，在玻璃窑炉中作电熔玻璃电极、鼓泡管、热偶保护管、气体取样管等，还可以用于厚模电阻、导电抗氧化涂层等。

　　3、二硅化钼粉体的规格型号:

　　产品名称化学成份组成 (wt%)

　　MoSi2       SiSIFOC

　　>35.5