供应电阻率10 18.3M .cm电子级超纯水设备

名称:供应电阻率10 18.3M .cm电子级超纯水设备

供应商:靖江市恒信环保设备有限公司

价格:50000.00元/套

最小起订量:1/套

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产品编号:50279397

更新时间:2021-07-22

发布者IP:221.230.215.176

详细说明

  [摘要]高(超)纯水:既将水中的导电介质几乎完全去除,电阻率约10~18.3MΩ.cm极限值。文中讲述了常用的三种制备高纯水的工艺流程,以及各自的特点,并讲解了2T/H的反渗透+EDI工程实例。

  [关键词]工业用高纯水超纯水电阻率18.25MΩ.cm 工艺流程工艺比较

  工业用高纯水概述:

  高纯水:既将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率约10~18.3MΩ.cm极限值。超纯水,是一般纯水设备很难达到的程度,通常采用预处理、反渗透技术、高纯化处理以及后级处理四大步骤,多级过滤、高性能离子交换(抛光)、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法,电阻率方可达18.25MΩ.cm。

  工业高纯水设备反渗透预脱盐设备

  制备工业用高纯水的工艺流程:

  制备超水的工艺大致分成以下几种:

  1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→阳床→阴床→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

  2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→软水器-精密过滤器→反渗透设备→纯水箱→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置精密过滤器→用水点

  3、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭配的的方式,这是一种制取超纯水的最新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→软水器-精密过滤器→反渗透设备→纯水箱→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→抛光混床-紫外线杀菌器-终端精密过滤器→用水点

  工业超纯水设备EDI后置精除盐设备

  三种制备工业用高纯水的工艺比较:

  目前制备工业用超纯水的工艺基本上是以上三种,其余的工艺流程大都是在以上三种基本工艺流程的基础上进行不同组合搭配衍生而来。现将他们的优缺点分别列于下面:

  1、第一种采用离子交换树脂其优点在于初投资少,占用的地方少,但缺点就是需要经常进行离子再生,耗费大量酸碱,而且对环境有一定的破坏。

  2、第二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备,其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高,但离子设备再生周期相对要长,耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。

  3、第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置,这是目前制取超纯水最经济,最环保用来制取超纯水的工艺,不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水,对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。

  工程实例

  2t/h电子行业用高纯水系统工艺流程如下:

  原水管道-原水加压泵-多介质过滤器-活性炭过滤器-软水器-精密过滤器-反渗透机-中间水箱-EDI装置-中间水箱-抛光树脂-紫外线杀菌器-终端精密过滤器-用水点-回中间水箱 .........

  2t/h电子行业用高纯水系统配置清单如下:

序号 名称 规格、型号 单位 数量
1 自来水加压泵 CH4-30 4t/h 流量4m3/h 40m扬程带自控 1
2 多介质过滤器 FRP罐体 1
3 全自动炭过滤器 FRP罐体 1
4 全自动软水器 FRP罐体 1
5 保安过滤器 Ф220*1000 5μm SUS304 1
6 反渗透设备 RO2000 2t/h 美国反渗透膜 1
7 中间水箱 2000L SUS304 带水位控制器 1
8 EDI装置 EDI3000 3t/h 根据用户要求选用EDI品牌 1
9 中间水罐 1000L SUS304 1
10 纯水水泵 CDL4-30 1
11 抛光混床 混床专用玻璃钢罐体 抛光树脂 1
12 紫外线杀菌器 2t/h SUS304 1
13 终端精密过滤器 0.5μm SUS304

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电子级水质技术标准
我国电子级水质技术指标,GB11446-1-89
化学指标单位:μg/L
指标 EW-Ⅰ EW-Ⅱ EW-Ⅲ EW-Ⅳ EW-Ⅴ
电阻率 MΩ·CM(25℃) 18 15 10 ≥2 ≥0.5
90%时间最小17 90%时间最小12 90%时间最小8
大于1μm微粒数,最大值,个/mL 1 5 10 100 500
大于0.5μm微粒数,最大值,个/mL 100 300 500 1000 2000
细菌个数,最大值,个/mL 1 5 10 50 100
总有机碳含量,最大值 50 100 200 1000 1000
二氧化硅总含量,最大值 2 20 50 100 1000
氯含量,最大值 0.5 2 10 100 500
铜含量,最大值 0.2 2 5 50 500
钾含量,最大值 0.5 5 10 100 1000
钠含量,最大值 0.5 6 10 200 500
锌含量,最大值 0.2 2 10 100 500
铝含量,最大值 0.5 5 10 100 500
铁含量,最大值 0.5 5 10 100 500
钙含量,最大值 0.5 5 10 100 500
中华人民共和国机械电子工业部1989-03-24批准 1990-03-01实施