10(十)级洁净室装修工程技术是国家高技术产业化示范工程项目的科技攻关产业化成果，主要用于6英寸以上晶片大规模集成电路科研和生产实现高洁净等级工艺环境。

　　10(十)级洁净室设计施工特点:

　　满足6～8英寸硅片亚微米级大规模集成电路科研和生产的高洁净等级工艺环境达到ISO14644-1及USA Fed std209E国际标准要求，送入0.1微米10级洁净室上方静压箱的空气经过三级过滤的预处理，降低了颗粒浓度，保证洁净度0.1微米10级的实现。采用低噪音风机组实现静压和低噪音，温度控制实现22℃±0.5℃，湿度控制实现45%±5%。

　　10级洁净室设计施工技术指标:

　　1. 净化级别:0.1微米 10级

　　2. 室内静压:≥5Pa(≥0.5mmH2O)

　　3. 洁净室气流:层流

　　4. 室内噪声:≤65db(A)

　　5. 室内温度:22℃±0.5℃

　　6. 室内湿度:45%±5%

　　7. 室内照明:350Lx～800Lx