X射线膜厚仪是采用能量散射X-射线萤光测量原理，符合国际标准来进行非破坏及不接触的测量,除了可以测量镀层厚度外，还可以计算合金中各种元素的含量,基本操作软件WINFTM V6 LIGHT，可以同时间测量多至4层镀层、或进行多至5元素的合金分析、又或是最多测量两个正离子的药水浓度测量分析。在不使用标准片做校正的情况下可达到一个相当不错的测量结果。

　　X射线膜厚仪的优点

　　> 采用国际上最先进的、稳定性最好的射线源，体积小，使用寿命长，易维护。

　　> 设备结构简洁、操作简单、部件更换快速、简单，便于维护。

　　> 快速多点校正法技术保证了系统的长期精度。

　　> 快速、连续、非接触测量、实时显示高精度测量值。

　　> 操作站:提供中英文操作界面(Win2000)。采用web以太网平台，使用最新的JAVA 技术。

　　> 采用双放大技术和独特大电离室，提升测量范围及精度。

　　X射线膜厚仪的综合性能:镀层分析 定性分析 定量分析 镀液分析镀层分析:可分析单层镀层,双层镀层,三层镀层, 合金镀层. 镀液分析:可分析镀液的主成份浓度(如镀镍药水的镍离子浓度,镀铜药水的铜离子浓度等),简单的核对方式,无需购买标准药液. 定性定量分析:可定性分析20多种金属元素,并可定量分析成分含量.