详细说明
硅片切割设备产品特点
•光束质量好。准基模(低阶模),发散角小。
•全封闭光路设计,确保激光器长期连续稳定运行,对环境适应能力更强。
•连续工作时间长。24小时不间断工作。
•运行稳定。划片加工成品率高。
•整机采取国际标准模块化设计,结构合理,安装维护更方便简洁。
•各系统和部件合理配置,各部分和整机发挥最高效益。
硅片切割设备应用及市场
•能适应单晶硅、多晶硅、非晶硅电池划片和硅、锗、砷化镓半导体材料的划片和切割。
硅片切割设备主要参数
•SDS50型半导体激光划片机系列设备,工作光源采用半导体泵浦激光器和声光调制系统、数控X/Y工作台,步进电机驱动,在电脑控制下精确运动,专用控制软件使程序的编辑和修改简单方便,并实时显示运动轨迹。工作台采用双气仓负压吸附系统,T型结构双工作位交替工作。
•系统采用国际流行的模块化设计,关键部件均采用进口产品。整机结构合理、 比较灯泵划片机其速度更快、精度更高、操作简单方便,能24小时长期连续工作,各项性能指标稳定可靠,一体化程度更高、光束质量更好、运行成本更低、免维 护时间更长故障率低,加工成品率高,适用面广,在太阳能行业得到广泛的应用和用户的高度肯定。
硅片切割设备主要参数
型号规格 | SDS50 |
激光波长 | 1064nm |
划片精度 | ±10μm |
划片线宽 | ≤50μm |
激光重复频率 | 200Hz~50KHz |
最大划片速度 | 140mm/s |
激光功率 | 50W |
工作台幅面 | 350mm×350mm |
使用电源 | 380V(220V)/ 50Hz/ 3.5KVA |
冷却方式 | 循环水冷 |
工作台 | 双气仓负压吸附,T型台双工作位交替工作 |