详细说明
设备主要用于半导体工艺中对硅片进行显影和定影。
规格尺寸:长3200mm宽1700mm高1780mm
主要材质:1.设备由五大部分组成:清洗槽部分、层流净化系统、电器控制系统、机架及整机。
2.关键件采用进口件，包括气门阀。PFA管道，全氟循环系统，保证工作介质（酸、碱）的洁净度，避免杂质析出。、
3.人机界面为触摸屏，方便直观。
4.出装机和取片需人工外，其余工艺动作均可自动完成，适用于连续批量生产。
5.界面中有故障报警、安全保护，工艺时序号等功能。
备注:工作区的净化装置，内置高效过滤的装置，满足工作区净化要求，（1000-100级，10级为特制）