概述

　　Edwards STP603是新型的涡轮分子泵，可用于最先进的半导体应用。Edwards 的转子技术可实现一流的性能，最大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了认可。

　　应用

　　· 金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）

　　· 电子回旋共振 (ECR) 刻蚀

　　· 薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD

　　· 溅射

　　· 离子注入源，射束线泵送端点站

　　· MBE

　　· 扩散

　　· 光致抗蚀剂脱模

　　· 晶体/晶膜生长

　　· 晶片检查

　　· 负载锁真空腔

　　· 科学仪器:表面分析、质谱分析、电子显微镜

　　· 高能物理:射束线、加速器

　　· 放射线应用:融合系统、回旋

　　功能和优势

　　先进的转子技术

　　· 最大的制程灵活性

　　· 无油

　　· 低振动

　　· 高度可靠

　　· 免维护

　　先进的控制器设计

　　· 自动调整

　　· 自行诊断功能

　　· 直流电机驱动

　　· 无电池运行

　　紧凑型设计

　　· 占地面积小

　　· 半机架控制器

　　技术数据