应用范围

　　主要用于在大平板玻璃上镀制金属单层质膜、合金膜或金属化合物膜，经镀膜的玻璃具有遮阳、保温、节能和装饰作用。

　　结构特点

　　1、采用新型的平面和柱状磁控溅射射靶技术，提高镀膜效果和效率。

　　2、配备高精度的磁控电源、气体流量和速度控制，自动化程度高，操作简便，性能稳定。

　　3、膜层均匀性好、附着力强、硬度高、抗腐蚀性好，可镀多种颜色的膜系。

　　4、真空室有传统的立式设计和高效的卧式设计，满足不同层次客户的需要。

　　低辐射玻璃（Low-E）是在优质浮法玻璃原片上采用真空磁控溅射方法镀制一层纳米级的金属银层而成。可以使玻璃的辐射率从0.84降低至0.1，甚至更低，辐射热损减少90％，从而达到节能、环保的目的。

　　低辐射镀膜玻璃能反射远红外热能，与普通镀膜产品相比能允许高可见光透过，低室外反射。合成中空后，拥有所有玻璃种类中最低的U值，既能保持室内通透明亮，又能保证冬暖夏凉。

　　本生产线既可以生产遮阳型低辐射玻璃，又可以生产高透型低辐射玻璃，也可以生产热反射隔热镀膜玻璃，满足不同地区的不同需要；还可以生产多种不同颜色(交涉膜,又称彩色膜)的镀膜玻璃、自洁玻璃，设备可按客户要求订造，满足不同客户的需求。

磁控溅射镀膜生产线主要技术参数

型号 性能 JTB-L2500 JP-2500 JP-J2500 JT-2200 JP-D2500 基片尺寸 2.5×1.65 2.5×1.83 2.5×1.83 2.5×1.65 2.44×1.83 产量（万米2/年 20~30 60~80 5~8 极限压力 2×10-3 2×10-3 2×10-3 2×10-3 抽气时间（空载从大气抽至2×10-2Pa）(min) ≤ 20 ≤ 20 溅射功率 30kW×2 80kW×3 100kW×2 30（双移动靶） 100kW×2 加热功率 20 20 离化功率 3 基片移动速度 0.5~2 可调 0.5~4可调 0.5~4可调 0.5~4 可调 平均功率 105 210 80 名义总功率 170 450 260 98 280 占地面积 15×6 42×8 10×11 8×6 25×11 更多产品 手机 留言