详细说明
应用范围
主要用于镀制多种金属，也可以镀多层膜、合金膜及化学物膜，如镀超硬耐磨损膜、防腐蚀膜、装饰膜（金、银、黑、红、蓝、绿等颜色），结合磁控溅射技术可镀制多层复合膜。
结构特点
1、采用脉冲技术，使沉积粒子细化，膜的性能提高，且具有沉积速度快、离子能力大等特点；
2、配备柱状阴极点弧源和磁控溅射源，适合范围广；
3、新型靶源结构，有效提高离化率和膜层均匀性；
4、所镀膜层具有硬度高，膜层与基底结合强度好，耐酸、碱、盐的能力强的特点
| 多弧离子镀膜设备主要技术参数 |
| 项 目 型 号 | 镀膜室尺寸(mm) | 极限压力(pa) | 最大工件回转直径(mm) | 抽气时间(min)(大气到2×10-2 Pa) | 镀膜方式 | 加热方式 | 典型工作周期(min) | 总功率(kw) | | TG-600 | Φ660×800 | ≤ 3×10-3 | Φ120×550(6轴) | ≤ 15 | 电弧＋溅射 | 烘烤 | 40~60 | 64 | | TG-700 | 700×700×700 | ≤ 3×10-3 | Φ120×450(6轴) | ≤ 15 | 电弧＋溅射 | 烘烤 | 40~60 | 64 | | TG-800 | Φ860×1000 | ≤ 3×10-3 | Φ170×750(6轴) | ≤ 15 | 电弧＋溅射 | 烘烤 | 40~60 | 94 | | TG-1000 | Φ1100×1500 | ≤ 3×10-3 | Φ200×1250(6轴) | ≤ 15 | 电弧＋溅射 | 烘烤 | 40~60 | 125 | | TG-1250 | Φ1250×1600 | ≤ 3×10-3 | Φ270×1350(6轴) | ≤ 15 | 电弧＋溅射 | 烘烤 | 40~60 | 145 |
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