UV光催化净化除臭设备 

　　设备介绍: 

　　它是一种能高效快速去除挥发性有机物（VOC）、无机物、硫化氢、氨气、硫醇、苯等各种恶臭气体的环保设备。脱臭效果较好，脱臭效果大大超过国家颁布的恶臭污染排放标准（GB14554-93）。   

　　应用领域: 

　　油漆喷涂、炼油厂，橡胶厂，化工厂，制造厂，污水处理厂，垃圾转运站，实验室等废气净化处理  

　　设备特点及优势:

　　安全可靠，适应性强；因采用光解原理，模块采用隔爆处理，消除了有机废气易爆安全隐患，防火、防爆、防腐性能好（全不锈钢结构304），设备性能安全稳定，通过合理的模块配置，可广泛应用于各类废气、恶臭气体净化处理。无运动噪音，可每天

　　24小时连续工作。除定期检查维护外，无需专人管理和操作，维护和能耗成本低，净化处理效果优于国家标准。  适合处理高浓度、气量大、分子结构稳定性强的有毒有害气体；有效净化彻底；氧化性强；高效节能；氧化性强；广谱性；使用寿命长；

　　分类:

　　光催化氧化技术是在光化学氧化技术的基础上发展起来的。光化学氧化技术是在可见光或紫外光作用下使有机污染物氧化降解的反应过程。但由于反应条件所限，光化学氧化降解往往不够彻底，易产生多种芳香族有机中间体，成为光化学氧化需要克服的问题，而通过和光催化氧化剂的结合，可以大大提高光化学氧的效率。

　　根据光催化氧化剂使用的不同，可以分为均相光催化氧化和非均相光催化氧化。

　　均相光催化降解是以Fe2+或Fe3+及H2O2为介质，通过光助 - 芬顿反应产生羟基自由基使污染物得到降解。紫外光线可以提高氧化反应的效果，是一种有效的催化剂。紫外/臭氧(UV/03)组合是通过加速臭氧分解速率，提高羟基自由基的生成速度，并促使有机物形成大量活化分子，来提高难降解有机污染物的处理效率。

　　非均相光催化降解是利用光照射某些具有能带结构的半导体光催化剂如TiO2、ZnO、CdS、WO3、SrTiO3、Fe2O3等，可诱发产生羟基自由基。在水溶液中，水分子在半导体光催化剂的作用下，产生氧化能力极强的羟基自由基，可以氧化分解各种有机物。把这项技术应用于POPs的处理，可以取得良好的效果，但是并不是所有的半导体材料都可以用作这项技术的催化剂，比如CdS是一种高活性的半导体光催化剂，但是它容易发生光阳极腐蚀，在实际处理技术中不太实用。而TiO2可使用的波长最高可达387.5nm，价格便宜，多数条件下不溶解，耐光，无毒性，因此TiO2得到了广泛的应用。

　　技术原理: 

　　一、本产品利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体，改变恶臭气体如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC类，苯、甲苯、二甲苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子化合物，如CO2、H2O等。 

　　二、利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。UV+O2→O-+O（活性氧）O+O2+O3(臭氧)，众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有立竿见影的消除效果。

　　三、恶臭气体利用排风设备输入本净化设备后，净化设备运行高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应，使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水喝二氧化碳，再通过排风管道排出室外。

　　四、利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的。