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　　这种方法是在高真空状态下令材料气化或离子化沉积于工件表面而形成镀层的过程。其主要方法是。物相沉积（PVD），在真空条件下，将金属气化成原子或分子，或者使其离子化成离子，直接沉积到工件表面，形成涂层的过程，称为物相沉积，其沉积粒子束来源于非化学因素，如蒸发镀溅射镀、离子镀等。高电压下将不同离子注入工件表面令其表面改性的过程，称为离子注入，如注硼等。化学气相沉积（CVD），

　　等速电泳:是在样品中加有领先离子（其迁移率比被分离离子的大）和终末离子（其迁移率比被分离离子的小），样品加在领先离子和终末离子之间，在外电场作用下，各离子进行移动，经过一段时间电泳后，达到分离。被分离的各离子的区带按迁移率大小依序排列在领先离子与终末离子的区带之间。由于没有加入适当的支持电解质来载带电流，所得到的区带是相互连接的，且因“ 自身校正”效应，界面是清晰的，这是与区带电泳不同之处。

　　电泳是指带粒子在电场中向与自身带相反电荷的电极移动的现象。例如蛋白质具有两性电离性质。当蛋白质溶液的pH在蛋白质等电点的碱侧时，该蛋白质带负电荷，在电场中向正极移动，相反则带正电荷，在电场中向负极移动，只有蛋白质溶液pH在蛋白质的等电点时静电荷是零，在电场中不向任何一极移动。

　　钴锡在应用和外观上与铬相似。要获得与镀铬部件相同的外观，首先用光亮镍电镀钴锡部件。然后，您将使用钴锡对组件进行闪光。钴锡用于装饰物体、提高耐磨性、硬化、提高可焊性、减少摩擦、提高红外反射率、提高油漆附着力、改变导电性以用于辐射屏蔽、腐蚀抑制和其他用途。化学镀镍属于化学镀技术。您使用化学镀镍来沉积金属镀层，而无需使用外部电源为镀液充电。这种方法允许沉积相对较厚的层，提供均匀的电镀刚度并且是独一无二的。