真空井式坩埚炉，集控制系统与炉膛一体，其中炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，程控硅碳棒加热。超大口径的石英炉腔和真空密封法兰系统，可在流动气氛和真空状态下快速加热样品。主要用于金属、非金属及化合物材料进行烧结、融化、分析。控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、主加热工作/停止按钮，以便随时观察。

　　坩埚炉的技术参数

　　工作温度:≤1100℃

　　最高温度:1200℃

　　控温方式:智能化可编程控制

　　升温最快速率:40℃/min

　　恒温精度:±1℃

　　炉门结构:上开式

　　工作电源:AC220V

　　额定功率:3KW

　　主要特点:

　　硅碳棒作为发热元件，可加热到1200℃高纯石英杯（2520不锈钢）:250外径x 230内径x 300高mm 。高精度不锈钢针阀和真空表及真空法兰可直接使用。内置30段可编程精密数字温度控制器可控制升降温速率。

　　坩锅炉主要应用:

　　煅烧真空或惰性气体的高纯度化合物退火或扩散半导体晶片多达6“直径