吉林电子洁净室检测议专业车间施工团队

　　为了达到目标温湿度控制点，其对应的温湿度控制分区处理过程为:在Zone 1 的范围内，先降温去湿，再加热。在Zone 2的范围内，先降温，再加湿。在Zone 3 的范围内，先加热，再加湿。在Zone4 的范围内，先降温去湿，再加热。定义:D—控制对象含湿量，T—控制对象温度。通常情况下， 对于设定值温度22±2℃，湿度45±5%RH 而言，Zone1 和Zone3的情况比较多，即需要先降温去湿然后再加热或者先加热然后再加湿。

　　在生物制的洁净车间中对易吸潮品的相对湿度要求45％一50％RH(夏季)，片剂等固体制剂50％～55％RH，水针及口服液55％～65％RH。清洁车间大部分净化厂房尤其电子工业用的洁净厂房都有严格的恒温、恒湿的要求，不仅对厂房内的温、湿度有严格的要求，而且对温度和相对湿度的波动范围也有严格的要求。这样有利于的控制品的生产质量。在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅(silicon)片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0。24um线性膨胀，所以有   plusmn;0。1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，是怕钠(Sodium)的半导体车间，这种车间不宜超过25度。

　　洁净车间(洁净室)是一个企业的核心，是空气达到一定级别的可供人活动或生产工作的空间，其功能室控制微粒子和微生物的污染。洁净室的洁净不是一般的干净，而是达到了一定空气洁净度级别。洁净车间(洁净室)按照用途分类分为工业洁净室和生物洁净室，按气流形式分类分为单项流洁净室、非单项流洁净室、混合流洁净室、辐（矢）流洁净室等。

　　开度增大以抵消新风带来的热负荷;如果进入洁净室的新风的温度过低，将使得在DCC开度为零时达到环境温度的要求。根据统计数据，空调系统的能耗占整个半导体厂的能耗的30%-35%，因此对空调设备进行优化控制，选择合理温湿度设定值，对提高整个洁净室温湿度控制的稳定性及具有重要的意义。随着半导体生产工艺的不断发展，更精密、集成度更高是行业发展的趋势。目前，制造工艺已经进入亚纳米时代，对生产设备的精度要求越来越严格，因此，除了设备本身的工艺水平需要达到生产要求以外，其所处的生产环境——洁净室的各项也被严格地控制，包括:洁净度、温湿度、照度、气流方向、振动静电、磁场以及有害气体等。其中的温湿度控制是重点，其控制的效果直接影响着生产的优良率。