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　　洁净室温湿度处理基本流程及常见问题洁净室温湿度处理基本流程前摄像头:5.0MP 后摄像头:13.0MP AF半导体洁净室厂房通常采用新风空调箱(Meup Air Unit，MAU)+风机过滤单元(FanFilter Unit，FFU)+干冷盘管(Dry Cooling Coil，DCC)的设计，即新风空调箱MAU将具有一定洁净等级和温湿度的新风送到洁净室的回风通道中，与循环回风进行混合后进入洁净室吊顶上方，通过风机过滤单元FFU

　　目前半导体洁净室对温湿度的控制范围通常为:温度22±2℃，湿度45±5%RH。本文通过对现有洁净室温湿度控制系统的研究，引入模糊控制，以提高温湿度控制的实际效果。温湿度控制系统实现基本上， 现在洁净室温湿度要求为22±2℃，45±5%RH，当然根据生产工艺的需求，对温湿度的要求也不尽相同。新风空调箱的温湿度控制新风空调箱基本结构新风空调箱基本结构如图3 所示，其处理流程如下:空气过滤———包括初效、中效、三部分;温度处理———包括预热盘管、一次表冷盘管、再热盘管三部分;

　　化学式净化方式光催化法 工作原理:空气通过光催化空气净化装置时，光触媒在光的照射下自身不起变化，却可以促进化学反应的物质空气中的有害物质如甲醛、苯等在光催化的作用下发生降解，生成无害的物质，而空气中的细菌也被紫外光除掉，空气因此得到净化。 缺点:广谱但需要空气流速较低，净化速度比较慢并且对人体有一定的辐射，在欧美是被汰的净化方式。 甲醛清除剂 工作原理:是采用化学物质和甲醛进行化学反应，达到清除甲醛的目的没有洁净室，就不可能批量生产污染敏感的零件。在FED-STD-2中，洁净室被定义为具有空气过滤、分布、优化、结构材料和设备的房间，具体的规则操作程序控制空气悬浮颗粒的浓度，以达到适当的颗粒清洁度。