绵阳注塑净化车间装修生产厂

　　按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。

　　目前半导体洁净室对温湿度的控制范围通常为:温度22±2℃，湿度45±5%RH。本文通过对现有洁净室温湿度控制系统的研究，引入模糊控制，以提高温湿度控制的实际效果。对空气单纯地加热或制冷(未达到饱和状态)过程，是含湿量保持不变的过程，即对湿度保持不变的过程。湿空气经过盘管加热，温度升高而相对湿度下降;相反,对冷却过程，温度下降而相对湿度相应升高，因此我们可以得出，温度和相对湿度是两个不同方向的控制量，要使温湿度同时向相同的趋势变化，

　　粒子计数器设备分落散布在车间各监控点位，由安装了系统监控软件的主控电脑控制各采集点的工作状态；监控软件可选择设定测试粒径、测试时间、采样间隔、刷新频率、显示单位、采样模式和超限报警等，并可对测试历史数据按需求进行查询、统计、分析及绘制曲线图，并可提供moudbus485通讯协议对接用户物联网平台，供用户自行开发和应用。半导体器件晶圆的生产过程中，易受外来物、灰尘粒子、金属离子等外来物的影响而破坏表面结构，这种产品特性也决定了其制造过程中有洁净度的要求。所以洁净室至于半导体行业是重要的存在。洁净室的洁净度控制不好，会导致空气中的含尘量过高，从而导致外来物的增加，进而影响到生产、测试的准确度、稳定性。严重还会导致探针测试卡的损坏。

　　容器规格应方便运输，适于储存条件的温度变化，容器设计应无，便于清洗。不同洁净区的容器，**在本区使用，不得跨区交叉使用，如需要，在一般生产区使用的容器进入洁净区，应外加包装，待脱外包装或清洁容器外壁后，再进入洁净区，洁净级别高的区域不被污染。为避免混乱，容器按01.02.03`„„顺序编号。已盛放物料的容器应挂状态标识，标明内容物的品名、批号、数量、生产日期，标牌应挂在容器外部。