惠州净化工程设计生产厂

　　按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。

　　脱洁净工作服时，要避免工作服触及地面、桌子与其它物品，一般要由下脱去工作服，并存放在柜内或挂在规定的处所。退出无尘净化车间时，在更衣区前不允许脱掉洁净工作服；脱去工作服后若再进入洁净室内，仍需按进入无尘净化车间的规定顺序进行。退出洁净室时，可以不需要经过空气吹淋而进入更换区域、净化工程公司。净化工程中车间内的作业人员管理:手是交叉污染的媒介，作业人员进入无尘净化车间内均需洗手，不要用手触及高净化产品和高净化包装材料等；对品生产作业人员还需进行处理。

　　传递窗两侧的门不得同时打开。在不使用时，两侧的门都关闭后，关闭电源。传递窗的清洁由传递窗操作人员负责。周转容器指的是生产过程中用于盛放固体或液体的不锈钢桶。半成品周转容器通常要放置一段时间，物料要与容器接触，所以周转容器材质应选择不锈钢材质。容器应有较好的密封性能，盖严密，不使物料在运输过程中发生外溢，外漏，并能有效的尘埃和异物的进入。因需要使用的容器密闭性差时，要在外部采取有效的密封措施。

　　开度增大以抵消新风带来的热负荷;如果进入洁净室的新风的温度过低，将使得在DCC开度为零时达到环境温度的要求。根据统计数据，空调系统的能耗占整个半导体厂的能耗的30%-35%，因此对空调设备进行优化控制，选择合理温湿度设定值，对提高整个洁净室温湿度控制的稳定性及具有重要的意义。随着半导体生产工艺的不断发展，更精密、集成度更高是行业发展的趋势。目前，制造工艺已经进入亚纳米时代，对生产设备的精度要求越来越严格，因此，除了设备本身的工艺水平需要达到生产要求以外，其所处的生产环境——洁净室的各项也被严格地控制，包括:洁净度、温湿度、照度、气流方向、振动静电、磁场以及有害气体等。其中的温湿度控制是重点，其控制的效果直接影响着生产的优良率。