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石嘴山净化工程设计生产厂

时间:2023-04-09 18:07

  石嘴山净化工程设计生产厂

  按照国际惯例,无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘,而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微,但是对于光学构造而言,哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响,所以在光学构造产品的生产上,无尘是必然的要求。

  进入一般生产区进入车间的物料,需在脱外包室脱去外包装,不能脱外包装的,用吸尘器吸去灰尘或用清洁巾擦干净,方可进入生产区。进入一般生产区的物料双方交接核对品名、数量,准确后,双方在交接记录上签字。进般生产区的物料,放到指定的位置,要求按品种、规格、批号分别存放,码放整齐,并有状态标识3.进入洁净区3.1需进入洁净区的物料,在外清室进行清洁,再用清洁巾浸剂擦拭物料表面后,由外清人员送到传递窗内,关紧传递窗门,打开紫外灯照射30分钟。

  卫生状态标识:标明生产前、后,生产线、设备、容器等的卫生状况,有“待清洁”、“已清洁”、“清场合格”标识。待清洁:设备、容器具等未经过清洗处理或超清洁有效期的状态。已清洁:设备、容器具等经过清洗处理达到洁净的状态,内容包括清洁日期、有效期至。清场合格:生产结束后清洁、清场检查合格,内容包括清场日期、有效期至。用于取样的样品传递。用于物料进出传递。不允许操作者利用传递窗进出。

  目前半导体洁净室对温湿度的控制范围通常为:温度22±2℃,湿度45±5%RH。本文通过对现有洁净室温湿度控制系统的研究,引入模糊控制,以提高温湿度控制的实际效果。对空气单纯地加热或制冷(未达到饱和状态)过程,是含湿量保持不变的过程,即对湿度保持不变的过程。湿空气经过盘管加热,温度升高而相对湿度下降;相反,对冷却过程,温度下降而相对湿度相应升高,因此我们可以得出,温度和相对湿度是两个不同方向的控制量,要使温湿度同时向相同的趋势变化,