西藏净化工程设计生产厂

　　按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。

　　粒子计数器设备分落散布在车间各监控点位，由安装了系统监控软件的主控电脑控制各采集点的工作状态；监控软件可选择设定测试粒径、测试时间、采样间隔、刷新频率、显示单位、采样模式和超限报警等，并可对测试历史数据按需求进行查询、统计、分析及绘制曲线图，并可提供moudbus485通讯协议对接用户物联网平台，供用户自行开发和应用。半导体器件晶圆的生产过程中，易受外来物、灰尘粒子、金属离子等外来物的影响而破坏表面结构，这种产品特性也决定了其制造过程中有洁净度的要求。所以洁净室至于半导体行业是重要的存在。洁净室的洁净度控制不好，会导致空气中的含尘量过高，从而导致外来物的增加，进而影响到生产、测试的准确度、稳定性。严重还会导致探针测试卡的损坏。

　　空容器的存放应划分区域，以避免使用的错误。使用中应检查容器的完好情况，如发现裂隙、破口等应及时更换。应制定容器的清洁规程，用后及时清洗，并清洗效果。容器使用一段时间正常损坏时，车间及时给予更换;属非正常损坏时，需说明原因，由车间做出相应的处理。物料进入生产区:车间领料员凭领料单领取物料，领料员领取的物料应有检验合格的报告书。生产区内不能存放多余的物料或与生产无关的物料，进出生产区的物料应控制在限度。为了工艺卫生污染，进出生产区的各种物料从物流通道进出，要进行清洁。

　　目前半导体洁净室对温湿度的控制范围通常为:温度22±2℃，湿度45±5%RH。本文通过对现有洁净室温湿度控制系统的研究，引入模糊控制，以提高温湿度控制的实际效果。温湿度控制系统实现基本上， 现在洁净室温湿度要求为22±2℃，45±5%RH，当然根据生产工艺的需求，对温湿度的要求也不尽相同。新风空调箱的温湿度控制新风空调箱基本结构新风空调箱基本结构如图3 所示，其处理流程如下:空气过滤———包括初效、中效、三部分;温度处理———包括预热盘管、一次表冷盘管、再热盘管三部分;