氧化镍靶材NiO磁控溅射靶材

名称:氧化镍靶材NiO磁控溅射靶材

供应商:北京晶迈中科材料技术有限公司

价格:面议

最小起订量:1/片

地址:北京市通州区张家湾镇北大化村东2幢二层B2256

手机:13301329625

联系人:张英 (请说在中科商务网上看到)

产品编号:182208426

更新时间:2021-08-31

发布者IP:27.189.200.142

详细说明

  科研实验专用氧化镍靶材NiO磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

  产品介绍

  氧化镍(NiO)为绿色粉末状固体,熔点:1980±20℃,密度:6.67g/cm³,不溶于水,不溶于碱液,为碱性氧化物,溶于酸和氨水。用作搪瓷的密着剂和着色剂,陶瓷和玻璃的颜料。在磁性材料生产中用于生产镍锌铁氧体等,以及用作制造镍盐原料、镍催化剂并在冶金、显像管中应用。用作电子元件材料、催化剂、搪瓷涂料和蓄电池材料。

  产品参数

  中文名 氧化亚镍 化学式 NiO

  分子量 74.71 熔点 1984℃

  密度 6.67g/cm

  支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!

  服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

  产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

  适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

  质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。

  加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

  陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

  我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

  注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

  建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。