科研实验专用二氧化硅靶材SiO2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

　　产品介绍

　　二氧化硅（SiO2）常温下为固体，不溶于水，是酸性氧化物，不跟一般酸反应，但溶于氢氟酸及热浓磷酸，能和熔融碱类起作用。自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅两种。结晶二氧化硅因晶体结构不同，分为石英、鳞石英和方石英三种。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光导纤维、电子工业的重要部件、光学仪器、工艺品和耐火材料的原料，是科学研究的重要材料。

　　产品参数

　　中文名 二氧化硅 化学式 SiO₂ 分子量 60.084

　　密度 2.2 g/cm3 熔点 1650（±50）℃ 沸点 2230℃

　　纯度 99.99%

　　支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！

　　服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！

　　产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

　　适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

　　质量控制:严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。

　　加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

　　陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！

　　我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。

　　注意:高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！

　　建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。