碲化铋靶材Bi2Te3磁控溅射靶材

名称:碲化铋靶材Bi2Te3磁控溅射靶材

供应商:北京晶迈中科材料技术有限公司

价格:面议

最小起订量:1/片

地址:北京市通州区张家湾镇北大化村东2幢二层B2256

手机:13301329625

联系人:张英 (请说在中科商务网上看到)

产品编号:181163503

更新时间:2021-08-31

发布者IP:27.189.200.142

详细说明

  科研实验专用碲化铋靶材Bi2Te3磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

  产品介绍

  碲化铋(Bi2Te3)是一种灰色的粉末,碲化铋是个半导体材料,具有较好的导电性,但导热性较差。虽然碲化铋的危险性低,但是如果大量的摄取也有致命的危险;但此种材料即可允许电子在室温条件下无能耗地在其表面运动,这将给芯片的运行速度带来飞跃,甚至可大大提高计算机芯片的运行速度和工作效率。用于半导体、电子冷冻和发电。

  产品参数

  中文名 碲化铋 化学式 Bi2Te3

  熔点 585℃ 密度 7.642g/ml

  分子量 800.76 纯度 99.999%

  支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!

  服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

  产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

  适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

  质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。

  加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

  陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

  我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

  注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

  建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。