真空镀膜设备应用广泛，真空蒸发镀膜主要有汽车反光网、工艺品、首饰、鞋帽、钟表、灯具、装饰、手机、DVD、MP3、PDA外壳、按键、化妆品外壳、玩具、圣诞礼品等行业；PVC、尼龙、金属、玻璃、陶瓷、TPU等。真空多弧离子镀膜设备跟真空磁控溅射镀膜设备可对各种金属进行表面镀膜.例如:钟表行业(表带、表壳、表盘等)、五金行业（卫生洁具、门把手、拉手、门锁等）、建筑行业（不锈钢板、楼梯扶手、立柱等）、精密模具业（冲棒标准件模具、成型模具等）、工具行业（钻头、硬质合金、铣刀、拉刀、刀头）、汽车工业（活塞、活塞环、合金轮毂等）以及钢笔、眼镜等等。

　　二手电镀机维护保养常识

　　1、真空镀膜机每完成200个镀膜程序以上，应清洁工作室一次。方法是:用烧碱（NaOH）饱和溶液反复擦洗真空室内壁，（ 注意人体皮肤不可以直接接触烧碱溶液，以免灼伤）目的是使镀上去的膜料铝（AL）与NaOH发生反应，反应后膜层脱落，并释放出氢气。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽阀内的污垢。

　　2、当粗抽泵（滑阀泵，旋片泵）连续工作一个月（雨季减半），需更换新油。方法是:拧开放油螺栓，放掉旧油，再将泵启动数秒，使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓，加入新油至额定量（油视镜观察）。连续使用半年以上，换油时应将油盖打开，用布擦干净箱内污垢。

　　3、扩散泵连续使用6个月以上，抽速明显变慢，或操作失当，充入大气，拆去联结水管，卸下电炉盘，将一级喷嘴拧出，先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍，再用洗衣粉兑水清洗一遍，然后用清水彻底清洗干净，待水份挥发干以后，装好泵胆，加入新扩散泵油，并装回机体，接好水管，装好电炉盘，便可以重新开机。在重新开机前，要注意检漏工作。方法是:启动维持泵，关好大门，数分钟后，观察扩散泵部分真空度是否达到6X10帕，否则要进行检漏。检查联接处是否装密封胶圈，或压坏密封圈。排除漏气隐患后方可加热，否则扩散泵油会烧环，无法进入工作状态。

　　JN镀膜机-CLD系列真空磁控溅射镀膜机型号及技术参数 性能 型号 JN-CLD-700 JN-CLD-900 JN-CLD-1000 JN-CLD-1250 JN-CLD-1400 JN-CLD-1600 镀膜室尺寸 Ф700×H900mm Ф900×H1100mm Ф1000×H1200mm Ф1250×H1350mm Ф1400×H1600mm Ф1600×H1800mm 电源类型 灯丝电源、脉冲偏压电源、直流磁控电源、中频磁控电源、射频磁控电源、线性离化源 真空室结构 立式双开门、立式前开门结构、后置抽气系统 真空室材质 优质不锈钢材质腔体 极限真空 6.0×10-4Pa 抽气时间 (空载） 从大气抽至8.0×10-3Pa≤15分钟 真空获得系统 扩散泵或分子泵+罗茨泵+机械泵+维持泵（具体型号可根据客户的要求进行配置） 镀膜方式 磁控溅射镀膜 制膜种类 金属膜、反应膜、化合物膜、多层膜、半导体膜 磁控靶类型 矩形磁控靶、圆柱形磁控靶、孪生磁控对靶 磁控电源功率及磁控靶数量 根据不同镀膜工艺和客户的需求进行选配 偏压电源 10KW/1台 20KW/1台 20KW/1台 30KW/1台 40KW/1台 50KW/1台 工件转架 转动方式 行星式公自转、变频调速（可控可调） 工艺气体 3路或4路工艺气体流量控制及显示系统 选配自动加气系统 冷却方式 水循环冷却方式，另需配冷却水塔或工业冷水机或深冷系统。（客户提供） 控制方式 手动/自动一体化方式、触摸屏操作、PLC或计算机控制 整机总功率 30KW 35KW 40KW 50KW 65KW 80KW 报警及保护 对泵和靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警，并执行相应保护措施及电气联锁功能。 设备占地面积 W2m×L3m W2.5m×L3.5m W3m×L4m W4m×L5m W4.5m×L6m W5m×L7m 其他技术参数 水压≥0.2MPa、水温≤25℃、气压0.5-0.8MPa ZZ-560型射频磁控溅射真空镀膜设备 一、 用途及特点 1. 为单室立式结构的高真空多功能真空镀膜设备，射频磁控溅射真空镀膜、直流磁控溅射真空镀膜的组合，既能满足各类膜层的实验研究，又能减少射频辐射的机会，当溅射金属材料时，可采用直流磁控溅射真空镀膜;当溅射非金属材料时,可采用射频磁控溅射真空镀膜. 2. 可真空镀膜膜层:金属单质膜(如Al、Ni)、合金膜、氮化物膜、碳化物膜、氧化物膜、其它非金属化合物膜. 二、 主要技术指标和外部设施要求 (一) 技术指标: 1. 真空镀膜室型式: 立式圆筒形、间歇工作 2. 真空镀膜室尺寸: φ600×400 3. 极限真空度: 5×10-3Pa 4. 压升率: ≤2Pa/h 5. 靶数量: 2个 6. 靶功率: 单靶2KW 7. 加热温度: 室温~150℃ 8. 工件尺寸: 垂直方向尺寸≤100mm 9. 总功率: 25KW （二）外部设施要求: (用户自备) 1. 电源: 380V 2. 气源: 压缩空气: 净化干燥,使用压力0.4~0.6Mpa 高纯氩气: 99.999% 高纯氮气: 99.999% 其它气体 3.冷却用水 压力: 1.5~2.5Kg/cm2、水温＜20℃ 4.占地面积: 20m2 三、 主要组成部分:真空镀膜室、真空系统、充气系统、气动系统、水路系统、电控系统 1.真空镀膜室 真空镀膜真空室体、靶装置、传动系统、加热器、观察窗、靶挡板机构、隔热屏、放气阀. 1).真空镀膜室体:为立式园筒形侧开门不锈钢结构. 2).靶装置:靶体及其零部件、磁体、屏蔽罩 靶型式:园形平面靶 靶面有效尺寸:φ120 靶位排布:侧面对放 靶特点:采取2个同心环磁体,每个同心环均由若干个磁柱 组成环状,可拓宽靶刻蚀区和改善靶原子的沉积分 布,从而提高膜厚的均匀度. 靶-基距:靶与基片的距离为50~80连续可调 3).传动系统:电机、主轴、密封箱、轴承、水冷箱等等. 4).加热器: 管状加热器 2.真空系统: 扩散泵: K-200T 罗茨泵: ZJ-30 旋片泵: 2X-8