徐州回收人造金刚石磨料方法有哪些

　　薄膜涂层刀具是在刚性及高温特性好的集体材料上通过化学气相沉积法（CVD）沉积金刚石薄膜制成的刀具。由于Si3N4系陶瓷、WC-Co系硬质合金以及金属W的热膨胀系与金刚石接近，制膜时产生的热应力小，因此可作为刀体的基体材料。WC-Co系硬质合金中，粘结相Co的存在易使金刚石薄膜与基体之间形成石墨而降低附着强度，在沉积前需进行预处理以消除Co的影响（一般通过酸腐蚀去Co）。化学气相沉积法是采用一定的方法把含有C源的气体，在低的气体压强下，使碳原子在一定区域沉积下来，碳原子在凝聚、沉积过程中形成金刚石相。目前用于沉积金刚石的CVD法主要包括:微波、热灯丝、直流电弧喷射法等。

　　温度效应:传统理论认为:温度对锯片过程的影响主要表现在两个方面:一是导致结块中的金刚石石墨化；二是造成金刚石与胎体的热奕力而导致金刚石颗粒过早脱落。新研究表明:切割过程中产生的热量主要传入结块。弧区温度不高，一般在40～120℃之间。而磨粒磨削点温度却较高，一般在250～700℃之间。而冷却液只降低弧区的平均温度，对磨粒温度却影响较小。这样的温度不致使石墨炭化，却会使磨粒与工件之间摩擦性能发生变化，并使金刚石与添加剂之间发生热应力，而导致金刚石失效机理发生根本性弯化。研究表明，温度效应是使锯片破损的大影响因素。

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　　CVD多晶金刚石膜的制备方法，包括高功率直流电弧等离子体喷射CVD、热丝CVD及MPCVD等。光学级、电子级多晶金刚石膜的制备要求沉积速率理想和缺陷密度低或可控，无电污染放电的MPCVD成了电子级、光学级金刚石膜制备的理想方法。但多晶金刚石生长速度较慢，其晶向一致性对加工，加工比较难。目前，元素六公司已实现4英寸电子级多晶金刚石的商业化量产。北京科技大学李成明团队、武汉工程大学汪建华团队和太原理工大学于盛旺团队在MPCVD制备光学级多晶金刚石膜的研究方面均取得了一定的成果。虽然目前国内光学级、电子级多晶金刚石膜与水平还存在差距，但国内以上团队开发的光学级多晶金刚石膜可满足红外／雷达双模制导窗口、高功率CO2激光加工机窗口及高功率微波窗口的基本应用需求。