马鞍山回收培育钻HTHP和CVD价格大概是多少

　　毛坯生产端:HTHP法与CVD法的产能比例约为四六开，其中HTHP产能主要集中在我国，在生产小克拉钻上具有成本与效率优势，而CVD法分布较广，我国和印度、美国等国均占有一定份额，在生产大钻、彩钻、异形钻方面具备优势。中游:经销流通+切磨加工(印度)+机构鉴定经销流通参与者分散，国内大经销商包括晶拓、博朗等；切磨加工环节呈现显著劳动力密集型特征，95%产能集中于印度，目前约三克拉毛坯能产出一克拉裸钻；机构鉴定背书则是每颗有价值成品钻进入终端市场的必经环节。

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　　中游切割端:印度为培育钻石切磨中心，与天然钻石共用切磨产业链资源世界钻石切磨四大中心:比利时安特内普、以列特维拉夫、美国纽约、印度孟买钻石加工中心的发展主要受原料驱动、市场驱动、劳动力驱动和驱动，主要集中在三类地区:（1）钻石的矿业中心（原料驱动），如俄罗斯、南非等；（2）钻石的贸易中心（市场驱动），如比利时、以列、美国等；（3）劳动力较为低廉的地区（劳动力驱动），如印度、中国、东南亚地区等。

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　　化学气相沉积法（CVD）是在高温（700°C-1,300°C）、低压（压强小于1Pa）的真空环境下，激发气体中的活性碳原子，通过控制其生长条件使活性碳原子均匀地沉积到天然钻石薄片上，待生长到足够的厚度，便形成培育钻石，该种方法下合成的金刚石主要为片状金刚石膜。CVD由于工艺和生产成本限制，适合生产3.5克拉以上的培育钻石毛坯。

　　化学气相沉积法（CVD）:化学气相沉积法，英文名称为ChemicalVaporDeposition（CVD），是指将含碳元素的混合气体置于一定条件下，气体中的碳原子按金刚石的结构在预先放置在生长舱中的种晶上沉淀，不断长大后形成的等轴晶系晶质体，简称为CVD培育钻石。CVD的培育首先将一个天然或培育钻石的籽晶片置于气体原料（主要是氢气H2和甲烷CH4）的环境中；在低压高温（压力小于1Pa,温度800~1000℃）的条件下，甲烷在高能微波或放电等方式的激发中分裂出一个个碳的等离子体，体到“种子钻石”上，籽晶片就会“一层一层”越长越大。