西藏回收培育钻HTHP和CVD价格查询

　　我们将培育钻石产业链分为上、中、下游三个环节。上游环节包括设备制造与毛坯生产，HTHP与CVD法各有千秋，中、下游的加工、销售等环节则殊途同归。目前产业链整体盈利水平呈现微笑曲线，上、中、下游毛利率分别约50%-60%/10%/60%。各环节的参与者也呈现纵向延伸趋势，生产商设立零售品牌、品牌方布毛坯生产。上游:设备制造+培育钻石毛坯生产设备制造端:HTHP法核心设备为六面顶压机，我国压机水平世界领先，但受设备厂商扩产意愿限制，压机供应量相对稳定；CVD法以MPCVD流派为主(日本SEKI相对)，设备数量增长较快，国产设备水平进步明显。

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　　CVD法起源于1952年的美国，我国CVD法培育钻石起步较晚。CVD有燃烧火焰、热丝、直流等离子、微波等离子多种流派。1952年，美国联邦碳化硅公司在低压条件下用含碳气体生长出培育钻石；1982年日本国家无机材料研究所宣布，培育钻石的生长速度已超过每小时1微米；1990年，荷兰Nijmegen大学用热丝法生长出了厚达0.5mm的CVD单晶体；1993年，美国Crystalline公司用微波等离子体CVD法生长出了相似厚度的单晶培育钻石；2007年，美国ApolloDiamond公司成功培育出批无宝石级CVD钻石；同年，德国奥格斯堡大学技术团队用“异质外延生长技术”成功生长出155ct的CVD单晶培育钻石；2019年，中科院宁波材料所实验室用一周时间制成1ct毛坯培育钻石。相较海外而言，我国CVD法培育钻石起步较晚。

　　化学气相沉积法，英文名称为ChemicalVaporDeposition，简称CVD法，是指将含碳元素的混合气体置于一定条件下，气体中的碳原子按金刚石的结构在预先放置在生长舱中的种晶上沉淀，不断长大后形成的等轴晶系晶质体，简称为CVD培育钻石。

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　　短暂冲击后，印度培育钻石毛坯与成品钻渗透率均迎来提升。我们取GJEPC所呈现的印度培育钻石毛坯额(成品钻出口额)占印度天然钻石与培育钻石毛坯额(成品钻出口额)之和的比值代表培育钻石的“渗透率”。从结果来看，排除2020年上半年的异常阶段(严重影响天然钻石矿山开采等环节，导致天然钻石产能下滑)，自2020年末开始，由于培育钻石下游消费需求端高景气，培育钻石毛坯与成品钻都迎来了渗透率的明显提升，在2022年6月培育钻石毛坯渗透率约7.7%，成品钻渗透率约为6.9%。而由于印度集中了九成以上的钻石切磨业务，因此我们认为印度进出口数据在一定程度上可以反映培育钻石行业的高景气度。