新郑回收培育钻HTHP和CVD厂家地址

　　化学气相沉积法（CVD）:化学气相沉积法，英文名称为ChemicalVaporDeposition（CVD），是指将含碳元素的混合气体置于一定条件下，气体中的碳原子按金刚石的结构在预先放置在生长舱中的种晶上沉淀，不断长大后形成的等轴晶系晶质体，简称为CVD培育钻石。CVD的培育首先将一个天然或培育钻石的籽晶片置于气体原料（主要是氢气H2和甲烷CH4）的环境中；在低压高温（压力小于1Pa,温度800~1000℃）的条件下，甲烷在高能微波或放电等方式的激发中分裂出一个个碳的等离子体，体到“种子钻石”上，籽晶片就会“一层一层”越长越大。

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　　化学气相沉积法(ChemicalVaporDeposition，CVD)通过富含碳的气体在钻石晶种表面沉积从而形成培育钻石。CVD法先将钻石晶种置于真空生长室中，并注入高含碳量混合气体(如甲烷)，将生长室加热至800-1000℃并使其压力低于标准大气压。在高温低压条件下，能量源(如微波束)将气体分解成碳和氢原子，碳原子经过扩散和对流在扁平钻石晶种上沉积，并以金刚石结构在其上结晶，形成板状钻石晶体。CVD方法合成的板状晶体通常会形成黑石墨粗糙边缘，因此在培育过程中会定期取出钻石打磨其顶部表面，再放回生长室，整个培育周期约为3-4周。

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　　高端机型占比提升为HTHP法带来持续增量，CVD法下亦有优秀公司引领行业。前文提到，不同型号的六面顶压机在单机产能(即生产效率)上差异明显，而根据力量钻石招股书中披露数据，高端设备在石墨粉等原材料的投入产出比上亦有优势。目前，从压机设备制造商角度来看，800/850压机已成为主流产品，这意味着未来市场中用于生产培育钻石的高端机型占比将持续提升，HTHP法头部生产商有望通过设备结构优化获得增量。另一方面，我国CVD法由于起步相对落后，整体技术水平仍有待提高，但需要注意的是，我国也已有部分企业达到世界一流水准，如宁波晶钻、上海征世、杭州超然等。参照世界顶尖水平，我国CVD法整体在设备制造成本、设备型号、原材料价格等方面均存在较大提升空间。

　　高折射率造就了钻石的璀璨光芒，使其闻名于世。许多人会把钻石切工等同于钻石的形状（圆形、心形、椭圆形、马眼形、梨形）。实际上钻石切工等级取决于其刻面与光线的相互作用结果。