六盘水回收培育钻石的地方

　　HTHP设备单机可提升但数量平稳，CVD设备单机与数量均有较大提升空间。从上游设备制造端看，HTHP法与CVD法格迥异:我国压机制造行业在整体规模、技术积淀等方面上均处于世界领先，行业格也相对稳定，制造商优势突出；微波等离子体CVD设备制造规模与技术距离世界顶尖尚有差距，业内公司以高校科研背景为主，能够实现量产的数量较少。两种设备行业情况与技术流派特征差异的结果是:压机制造行业未来产量规模较难出现增长，细水长流为长期主旋律，技术突破方向也不在于能带来飞跃的整机硬件，而在于更偏精益求精的设计组装；反观MPCVD设备制造行业，对标一流水平，我国制造商在规模、技术积淀等方面均有较大的提升空间。

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　　HTHP法和CVD法各有特点，目前国内以HTHP法为主。由于原理不同，HTHP法和CVD法在不同方面存在较大差异:从技术成熟度看，HTHP法较CVD法更成熟；从生产工艺上看，相较于CVD法，HTHP法生产周期较短、生产成本较低；而从产品形态上看，HTHP法产品呈颗粒状、纯净度较差，目前普遍用于生产克拉数较小的钻石，CVD法产品则呈片状、纯净度较高，在生产大克拉钻方面拥有优势。目前，我国HTHP法生产技术处于世界领先，而CVD法尚处于起步阶段，因此国内培育钻石生产还主要以HTHP法为主。

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　　化学气相沉积法（CVD）是在高温（700°C-1,300°C）、低压（压强小于1Pa）的真空环境下，激发气体中的活性碳原子，通过控制其生长条件使活性碳原子均匀地沉积到天然钻石薄片上，待生长到足够的厚度，便形成培育钻石，该种方法下合成的金刚石主要为片状金刚石膜。CVD由于工艺和生产成本限制，适合生产3.5克拉以上的培育钻石毛坯。

　　GIA美石研究院鉴定重量为0.15克拉或以上的未镶嵌、无至近乎无的合成钻石，分级报告中用“laboratory-grown（实验室培育）”指培育钻石，并且注明生产方法（CVD或HTHP）。GIA的分析方法包括观察内含物以及荧光和磷光等。然后，GIA根据钻石评级实验室的数据对培育钻石进行评级，颁发实验室制造钻石报告。该书外观与GIA天然钻石鉴定书类似，涵盖与天然钻石鉴定书相同的信息，且包含颜、净度等信息。