漯河回收钻石CVD电话

　　化学气相沉积法(ChemicalVaporDeposition，CVD)通过富含碳的气体在钻石晶种表面沉积从而形成培育钻石。CVD法先将钻石晶种置于真空生长室中，并注入高含碳量混合气体(如甲烷)，将生长室加热至800-1000℃并使其压力低于标准大气压。在高温低压条件下，能量源(如微波束)将气体分解成碳和氢原子，碳原子经过扩散和对流在扁平钻石晶种上沉积，并以金刚石结构在其上结晶，形成板状钻石晶体。CVD方法合成的板状晶体通常会形成黑石墨粗糙边缘，因此在培育过程中会定期取出钻石打磨其顶部表面，再放回生长室，整个培育周期约为3-4周。

　　钻石净度是指其无内含物和表面特征的程度。天然钻石是碳元素在高温高压的环境下形成的。而这一过程，也导致了每颗钻石有内部的特征，称为“内含物”，在钻石表面的特征则称为“表面特征”。

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　　MPCVD设备主要来自海外制造商，国产设备正逐渐进步。目前用于生产培育钻石的CVD方法有多种流派，的为微波等离子体法(MPCVD)，其设备核心部件为微波发生器等。MPCVD设备的制造可分为核心零部件和整装集成，当前市场上核心零部件基本来自德国牧歌和法国SAIREM，整装集成方面日本SEKI相对领先，但由于该公司对设备销售把控严格，因此其设备占市场整体比重也有限。目前我国整装集成商的技术水平提升明显，国机精工自产MPCVD已投入使用、上海征世旗下子公司铂世光、深圳优普莱等集成商也在进步。就设备本身而言，CVD法与HTHP法均有较高的技术与科技要求，但CVD设备的硬件限制会明显小于HTHP设备，长期看，MPCVD设备每年新增数量有望达到3000台以上。

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　　两种生产方法各有优势互不替代、HTHP五道工序精心打造培育钻石培育钻石是的人造金刚石单晶。目前，人造金刚石行业主要有高温高压法（HTHP）和化学气相沉积法（CVD）两大类生产方法。两种方法采用不同的合成原理和合成技术，生产出的产品类型和产品特点也各不相同，主要产业应用也侧重在不同的终端领域。在培育钻石合成领域，高温高压法（HTHP）培育速度快，在1-5ct培育钻石合成方面具有明显优势；化学气相沉积法（CVD）合成的培育钻石纯净度高，较适宜5ct以上培育钻石合成。两种方法侧重于不同类型的产品，不构成替代关系。