九江回收钻石CVD厂家电话

　　化学气相沉积法（CVD）:化学气相沉积法，英文名称为ChemicalVaporDeposition（CVD），是指将含碳元素的混合气体置于一定条件下，气体中的碳原子按金刚石的结构在预先放置在生长舱中的种晶上沉淀，不断长大后形成的等轴晶系晶质体，简称为CVD培育钻石。CVD的培育首先将一个天然或培育钻石的籽晶片置于气体原料（主要是氢气H2和甲烷CH4）的环境中；在低压高温（压力小于1Pa,温度800~1000℃）的条件下，甲烷在高能微波或放电等方式的激发中分裂出一个个碳的等离子体，体到“种子钻石”上，籽晶片就会“一层一层”越长越大。

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　　CVD法起源于1952年的美国，我国CVD法培育钻石起步较晚。CVD有燃烧火焰、热丝、直流等离子、微波等离子多种流派。1952年，美国联邦碳化硅公司在低压条件下用含碳气体生长出培育钻石；1982年日本国家无机材料研究所宣布，培育钻石的生长速度已超过每小时1微米；1990年，荷兰Nijmegen大学用热丝法生长出了厚达0.5mm的CVD单晶体；1993年，美国Crystalline公司用微波等离子体CVD法生长出了相似厚度的单晶培育钻石；2007年，美国ApolloDiamond公司成功培育出批无宝石级CVD钻石；同年，德国奥格斯堡大学技术团队用“异质外延生长技术”成功生长出155ct的CVD单晶培育钻石；2019年，中科院宁波材料所实验室用一周时间制成1ct毛坯培育钻石。相较海外而言，我国CVD法培育钻石起步较晚。

　　CVD技术是在金刚石亚稳定的压力温度条件下的生长方法。原理是将含碳气体甲烷（CH4）和氢气混合物在负压和温度100-1,500°C条件下激发分解出活性碳原子，通过控制沉积生长条件促使活性碳原子在基体上沉积，按照晶种提供的钻石模板排列堆积，交互生长成金刚石晶体，该种方法下合成的金刚石主要为片状金刚石膜。

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　　钻石加工属于劳动力密集型产业，印度是目前大的钻石加工基地。随着科技进步，在切磨加工的过程中，已经有不少环节引入机器设备提升效率，但重要的细磨抛光环节仍高度依赖人工且工业化。因此钻石加工需要大量具备熟练技能水平的工人，属于劳动力密集型产业。受益于人口红利和政府扶持，目前印度(主要集中于苏拉特、孟买)是大的钻石加工基地，根据贝恩咨询数据，2020年用于切磨加工的钻石毛坯有95%流入印度并在当地完成加工。