马鞍山回收人造金刚石颗粒联系方式

　　由于金刚石中的C-C键很强，的价电子都参与了共价键的形成，没有自由电子，所以金刚石硬度大，熔点在3550°C-4000°C，金刚石在纯氧中燃点为720~800℃，在空气中为850~1000℃。摩氏硬度10，新摩氏硬度15，显微硬度10000，显微硬度比石英高1000倍，比刚玉高150倍。金刚石硬度具有方向性，八面体晶面硬度大于菱形十二面体晶面硬度，菱形十二面体晶面硬度大于六面体晶面硬度。

　　CVD多晶金刚石膜的制备方法，包括高功率直流电弧等离子体喷射CVD、热丝CVD及MPCVD等。光学级、电子级多晶金刚石膜的制备要求沉积速率理想和缺陷密度低或可控，无电污染放电的MPCVD成了电子级、光学级金刚石膜制备的理想方法。但多晶金刚石生长速度较慢，其晶向一致性对加工，加工比较难。目前，元素六公司已实现4英寸电子级多晶金刚石的商业化量产。北京科技大学李成明团队、武汉工程大学汪建华团队和太原理工大学于盛旺团队在MPCVD制备光学级多晶金刚石膜的研究方面均取得了一定的成果。虽然目前国内光学级、电子级多晶金刚石膜与水平还存在差距，但国内以上团队开发的光学级多晶金刚石膜可满足红外／雷达双模制导窗口、高功率CO2激光加工机窗口及高功率微波窗口的基本应用需求。

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　　金刚石单晶与应用与多晶金刚石相比，无晶界制约的单晶金刚石（SCD）的光学、电学性能更加，在量子通信／计算辐射探测器、冷阴场发射显示器、半导体激光器、计算机CPU芯片多维集成电路及军用大功率雷达微波行波管导热支撑杆等前沿科技领域的应用效果突出，而制备出大尺寸高质量的SCD是前提。金刚石作为晶圆，其尺寸要达到2英寸以上。目前制备大尺寸金刚石及晶圆的技术主要有同质外延生长、马赛克晶圆制备和异质外延生长等技术。