高填平510酸性镀铜工艺

名称:高填平510酸性镀铜工艺

供应商:创丰表面处理有限公司

价格:面议

最小起订量:1/0

地址:广东省惠州市惠城区

手机:13622369458

联系人:黄先生 (请说在中科商务网上看到)

产品编号:87628479

更新时间:2021-09-03

发布者IP:113.81.227.252

详细说明

  一.特点

  引进国外主流品牌核心技术精心研制针对中高端要求产品的添加剂,质量完全与世界主流产品接轨,在广阔的电流密度范围内,可获得快速光亮和特高的填平镀层,低区也可得到极佳的整平光亮度,可应用于各种不同类型的基体金属。清亮无雾,使用范围极宽。2.氯离子;不足时,整平性不良,低区喑哑,过多时全区光亮度降低,当以分析纯盐酸形式补充:0.1 ml/l则氯离子增加35-40PPM/L。

  3. 510A主光剂:含量过低时,全区的填平度会下降。

  4.510B主光剂: 含量过低时,高区易烧焦。严重几倍过量时,镀层低区会出现起雾现象,同时低区光亮度变差。

  5.  510MU:开缸及补充硫酸和硫酸铜或带水损耗时使用,不足时,中高区会出现凹凸起伏的条纹, MU中含有适量的B剂,其作用辅助A、B作出高填平的镀层,使镀液有更好的分散能力。

  6.  定期分析镀液成份含量,及时补充原料及光剂,定期进行活性炭处理。

  7.  光剂的补充:光剂的消耗因电流、液温、带水损耗而耗量不同,添加剂的消耗量是会因镀液的温度升高而递增,A主光剂和B主光剂不可预先混合一起加入镀槽,基本标准以下:

  510A主光剂:60-100 ml /1000A/H

  510B主光剂:60-80 ml /1000A/H

  在实际工场操作时:

  1.     当A过量时,挂具最底层的工件易起角及字母易起拉条,建议单独补充B剂0.05-0.1 ml/l。

  2.      当B剂严重过量时,低区暗哑,建议单独补充A剂0.1 ml/l。

  3.      当MU不足时,大光面工件易起蒙砂及走位差,非常设机建议补充MU1-2 ml/l。

  4. 若生产中填平欠佳时,将A剂和B剂1:1比例同时提高即可!

  5.不论用进口或是国产光剂,只要镀液不含十二烷基硫酸钠阴离子表面活性剂,在原液正常有机杂质较少的情况下,可直接转用此光剂;含有阴离子表面活性剂的镀液转缸时,必須要用较多的活性碳(8一10g/L,分多次加入)并加温处理,处理至镀液完全无泡沫方可补加光剂,否则会导致转缸后出现镀层沙雾状。

  6.原液本身已有问题,例如有机产物较多,高电位沙朦等现象,建议用3一6g/L活性碳净化;在铁杂质含量较高的镀液中建议不加双氧水或高锰酸钾进行处理,否则处理好的镀液会是绿色,补加光剂会出现低区漏镀及走位差等现象,在这样的情况下最好用小电流电解由镀液绿色转至蓝色后再添加光剂,但电解时间较长。