北京科诺仪器 UV光清洗机应用领域:

　　■在进行薄膜沉积之前先进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。

　　■清洗硅芯片，透镜，反光镜，太阳能面板，冷轧钢，惯性引导零件和 GaAs芯片

　　■清洁焊剂，混合电路以及平板LCD显示器

　　■蚀刻特氟隆，氟橡胶以及其它有机材料

　　■增强GaAs 和Si氧化物钝化表面

　　■增强玻璃的除气作用

　　■基片蓝膜去除

　　■增强塑料表面的镀膜的粘附性

　　■基片终测后墨迹清楚

　　■去除光刻胶

　　■平板显示器/液晶显示器

　　■去除光刻机台上的光刻胶残留物

　　■在电路板封装和打片之前清洗）

　　■光纤

　　■增强表面亲水特性

　　■为生物科学应用做清洗和消毒

　　■光学透镜

　　科诺品牌-紫外臭氧清洗机优势:

　　1、可调节样品台与UV灯距离

　　2、长寿命的低压汞格栅灯

　　3、高效率的UV反光罩

　　4、更安全-清洗腔体打开时自动关闭UV灯

　　5、更坚固美观-全不锈钢拉丝设计

　　6、节省实验室空间-控制与反应腔体一体化设计

　　7、可定制真空反应腔和加热样品台。