浙江光耦内部结构

　　究竟指的是什么？在看一些元器件的DATASHEET文件时，经常会碰到元器件的参数，IOL,IOH,IIL,IIH,我也知道他们指的是输入输出高低电平时的大小电流，但在连接时他们之间的匹配问题一直很模糊，如:IOL=1.5MA;IOH=-300UA你所说的个器件表示在输出低电平的时候可以吸收（流入）1.5mA电流，输出为高电平的时候，可以输出300uA电流。第二个器件表示在输入低的时候会流出100uA电流，输入高的时候将吸收10uA电流。|IOL|>|IIL|，|IOH|>|IIH|，就表示输出器件可以带动输入器件。

　　浙江光耦内部结构

　　根据电容在电路中的不同位置，电容表现着不同的状态，常见的分类如下:按照结构分三大类:固定电容器、可变电容器和微调电容器；按电解质分类有:有机介质电容器、无机介质电容器、电解电容器和空气介质电容器等；按用途分有:高频旁路、低频旁路、滤波、调谐、高频耦合、低频耦合、小型电容器；频旁路:陶瓷电容器、云母电容器、玻璃膜电容器、涤纶电容器、玻璃釉电容器；低频旁路:纸介电容器、陶瓷电容器、铝电解电容器、涤纶电容器；

　　光敏二极管是电子电路中广泛采用的光敏器件。光敏二极管和普通二极管一样具有一个PN结，不同之处是在光敏二极管的外壳上有一个透明的窗口以接收光线照射，实现光电转换，在电路图中文字符号一般为VD。

　　浙江光耦内部结构

　　半导体三管又称“晶体三管”或“晶体管”。在半导体锗或硅的单晶上制备两个能相互影响的PN结，组成一个PNP（或NPN）结构。中间的N区（或P区）叫基区，两边的区域叫发射区和集电区，这三部分各有一条电引线，分别叫基B、发射E和集电C，是能起放大、振荡或开关等作用的半导体电子器件。晶体三管（以下简称三管）按材料分有两种:锗管和硅管。而每一种又有NPN和PNP两种结构形式，但使用多的是硅NPN和锗PNP两种三管，（其中，N表示在高纯度硅中加入磷，是指取代一些硅原子，在电压刺激下产生自由电子导电，而p是加入硼取代硅，产生大量空穴利于导电）。两者除了电源性不同外，其工作原理都是相同的，下面仅介绍NPN硅管的电流放大原理。对于NPN管，它是由2块N型半导体中间夹着一块P型半导体所组成，发射区与基区之间形成的PN结称为发射结，而集电区与基区形成的PN结称为集电结，三条引线分别称为发射e、基b和集电c。