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　　工业清洗剂主要分为两大系列:非水基型工业清洗剂， 水基型工业清洗剂。非水基型工业清洁剂是不能与水一起使用的工业清洁剂。如正己烷，烃类清洗剂，三氯乙烯替代品等。水基型工业清洁剂是可以用水稀释的工业清洁剂。它主要由表面活性剂和其他各种化学试剂组成，如不锈钢清洗剂。工业清洗剂已广泛应用于工业清洗塑料，光学玻璃镜片，金属制品（铜，铁，铝，钢，锌，合金）等材料表面清洁各种油脂，污渍，油脂等。

　　清洗剂中的氧化剂是一种通过与污渍发生化学反应来消除污渍的中药制剂，即用于清洗的还原剂或氧化剂，包括融化剂。还原剂用于消除氧化污渍，如许多有机化学污渍。氧化剂用于消除还原性污渍，如锈垢。

　　精密工业清洗直接关系产品的质量和性能，如果残留污垢超出标准，就会出现气泡、起皮、疵点等问题。一般需要的清洗设备和工艺，对清洗剂的纯度有一定的要求，工作环境有些要求在洁净室内进行。由于不同行业、不同产品的生产工艺所采用的清洗技术和设备差异很大，即使同类产品，不同规模的企业，不同的投资水平，清洗工艺和清洗设备也千差万别。精密工业清洗领域普遍采用的主流技术是超声波、蒸汽洗和喷淋的组合方式。近年来，一些新型的清洗技术和设备逐步得到开发和应用，如真空清洗、等离子清洗、紫外/臭氧清洗、激光清洗、干冰清洗等，展示了良好的效果和应用前景。

　　水是重要的清洗剂，具有其他清洗剂不可替代的作用和。普通的水很容易从自然界中获得，水有很强的溶解和分散能力。但水的表面张力较大，在使用中需要添加表面活性剂，降低表面张力，增加表面润湿性。在一般的工业清洗中，酸、碱和水的结合是常见的，有些金属要用防锈剂清洗。精密和超精密工业清洗。大部分都需要水才能做成纯净水。水的纯度通常用电阻率来衡量。半导体行业要求18 mω/cm以上。而TN液晶可以生产10m ω/cm，有些行业对细菌含量要求比较严格。